[发明专利]一种新型连续镀膜线真空冷阱的布置方式和工作方法

说明书

本发明提供了一种新型连续镀膜线真空冷阱的布置方式和工作方法，该布置方式包括将冷阱系统安装于镀膜工艺室外的一侧，且通过管道与镀膜工艺室连通；冷阱系统包括冷阱和与冷阱连接的冷阱盘管；将冷阱盘管通过加热固定装置固定于冷阱盘管腔室内；冷阱盘管腔室的一端连接于镀膜工艺室，另一端连接于一前级泵抽系统。本发明具有着结构简单、成本低廉、维护方便、不占用工艺腔室空间、不影响镀膜工艺、制冷盘管长度可调节等优点，适用于不同宽度规格的镀膜线，避免定期除霜需要对生产线整线破空，保证生产的连续性和工艺的稳定性，降低维护成本，大大提高了生产效率，对实际生产具有重大意义。

技术领域

本发明涉及镀膜玻璃生产线冷阱设备领域，尤其涉及一种新型连续镀膜线真空冷阱的布置方式和工作方法。

背景技术

真空磁控溅射镀膜在玻璃镀膜领域应用广泛，低辐射镀膜玻璃(Low-E)，其核心就是利用磁控溅射镀膜技术在玻璃基底上制备多层复合膜，使其具有高透过率低辐射性能，从而具备节能保温性能。磁控溅射设备包含腔体、传输、镀膜工艺、真空获得、冷却等部分。真空获得在整个镀膜设备中具有重要作用。

冷阱作为真空获得设备的一个重要组成部分，对快速获得高真空提高生产节拍，减少腔体内水分子量提高成膜质量具有重要意义。磁控溅射镀膜工艺对真空度要求高，本底一般可达到10^-4Pa。当真空度到达10^-2Pa时，水汽往往成为制约真空度降低的关键因素，同时，水汽的存在也会对镀膜工艺产生一定影响，如：影响薄膜附着力和相关的光学和力学性能。为此通常设备都会添加冷阱用于提高本底真空、提高成膜质量、加快抽气速度、提高生产节拍。

目前，连续式磁控溅射真空镀膜线使用的冷阱直接放置在工艺室内，镀膜前真空获得时，冷阱直接进行低温制冷捕集水汽，从而实现快速实现高真空的获得。当冷阱功率一定，工艺室本底真空一定的情况下，冷阱盘管长度往往是确定的，即盘管的表面积基本确定。冷阱盘管表面积直接限制了冷阱的最大制冷量，当盘管表面吸附水汽结霜达到一定厚度后，冷阱制冷效果大大降低，捕集水汽能力大幅度下降，此时冷阱盘管表面必须进行除霜才能使冷阱继续高效使用。有限的盘管面积要求冷阱设备必须定期进行除霜，从而保证冷阱工作效率和工作效果，但在工艺室内直接进行除霜，会在短时间内迅速降低腔室的真空度，从而导致产品质量下降、工艺室真空泵的损坏等问题。

实际生产时，整条镀膜线需要定期破空，对冷阱盘管进行高温除霜，尤其在高湿度地区，空气湿度大，冷阱盘管极易结霜，需要经常进行破空除霜，单次破空除霜维护再抽真空至本底压强至少需要半天，极大的降低了生产效率。

针对现有设备冷阱存在的问题，基于冷阱低温制冷高效捕集水汽的特性，需要一种将冷阱和镀膜生产工艺室分开设置，冷阱盘管可独立破空除霜的分布方式和工作方法。

发明内容

本发明为解决现有技术中的冷阱盘管需要经常破空除霜，导致镀膜生产线需要整线破空，降低生产效率的问题，提供一种新型连续镀膜线真空冷阱的布置方式和工作方法。

本发明的第一方面，本发明提供了一种新型连续镀膜线真空冷阱的布置方式，该布置方式将冷阱系统安装于镀膜工艺室外的外侧，且通过管路与镀膜工艺室连通；

冷阱系统包括冷阱和与冷阱连接的冷阱盘管；将冷阱盘管通过加热固定装置固定于冷阱盘管腔室内；在冷阱盘管腔室上设置一复合真空规，用以检测冷阱盘管腔室的真空度；

冷阱盘管腔室的一端连接于镀膜工艺室，另一端连接于一前级泵抽系统；

在冷阱盘管腔室与前级泵抽系统连接的管道上、冷阱盘管腔室与镀膜工艺室连接的管道上分别设置第一阀门和第二阀门；

在冷阱盘管腔室与外界大气连接的管道上设置第三阀门。

进一步地，在冷阱盘管腔室的内壁上均匀的设置保温层。

进一步地，保温层的材料为聚四氟乙烯。