[发明专利]一种用于荧光强度基底计算的方法

说明书

本发明涉及荧光免疫检测技术领域，更具体地说，涉及一种用于荧光强度基底计算的方法。本发明所述用于荧光强度基底计算的方法，通过先确定所述荧光强度散点图中T峰、C峰的峰值位置点，以及T峰、C峰的起始位置点、终止位置点，然后将对应峰起始点和峰终止点连线得到该线关于输出数据序号对应的线性函数，即T峰、C峰分别得到其对应的基底函数；采用本发明所述用于荧光强度基底计算的方法，使得在计算浓度时计算T峰、C峰的峰值或T峰、C峰的峰面积先减去其对应的固定基底或减去其对应的基底函数进行校正，其相较现有固定基底计算方法更有利于降低浓度检测的误差，并有效解决在检测较低浓度样本时仪器测不出值的技术问题。

技术领域

本发明涉及荧光免疫检测技术领域，更具体地说，涉及一种用于荧光强度基底计算的方法。

背景技术

在采用荧光免疫分析仪进行荧光免疫检测的过程中，系统所产生的基底信号被叠加至检测到的荧光强度数据中，会对测量精度有较大影响。基底信号即噪声基底，又叫干扰信号，其取决于系统中目标检测物质的自发荧光、光电探测器的暗电流和运放失调电压等因素。此外，测试过程中产生的基底信号还可能受试条层析等影响，从而出现基底信号曲线出现凹凸不平的现象，因此为了提高测量的准确性，需要去除基底信号。

现有技术采用传统减去固定基底数据的方法，会导致计算的T峰面积、峰值以及C峰面积、峰值存在较大误差，甚至在检测较低浓度样本时，存在仪器测不出值的情况。

故，现有技术具有较大的改进空间。

发明内容

本发明的目的是为了弥补现有技术的不足，提出一种用于荧光强度基底计算的方法。

为了达到上述目的，本发明通过以下技术方案实现：

一种用于荧光强度基底计算的方法，包括以下步骤：

(1)采用荧光免疫分析仪以设定的测试频率f、测试时间t对试剂卡进行测试，按序输出荧光强度数据，从而在以输出数据序号X为横坐标、荧光强度值Y为纵坐标的坐标系上得到(f×t)个荧光强度点，得到对应的荧光强度散点图；

(2)确定所述荧光强度散点图中T峰、C峰的峰值位置点(X_C，Y_C)；

(3)确定所述T峰、C峰的起始位置点(X_S，Y_S)、终止位置点(X_E，Y_E)；

(4)分别确定T峰、C峰的基底；所述T峰、C峰对应的基底的确定均包括以下步骤：将步骤(2)所得峰起始位置点(X_S，Y_S)和峰终止位置点(X_E，Y_E)连线，得到该线对应的线性函数f(X)，将所述线性函数f(X)作为基底B的计算函数；所述基底B为每个输出数据序号X对应于所述线性函数f(X)的函数值，即B＝f(X)，从而使得所述荧光散点图中波峰范围内每个荧光强度点均有对应的基底。

根据以上方案，步骤(4)还包括分别将T峰、C峰的峰值位置点的横坐标X_C代入线性函数f(X)，得到T峰、C峰对应的基底B_C＝f(X_C)，以B_C＝f(X_C)作为波峰范围内的每个荧光强度点的基底。

根据以上方案，步骤(2)中所述T峰、C峰的峰值位置点(X_C，Y_C)采用最大值或平均幅值法进行确定。所述最大值或平均幅值法为现有技术，在此不再详述。