[发明专利]一种通过改变涡轮位置调节K系数的方法

权利要求书

1.一种通过改变涡轮位置调节K系数的方法，对K系数可调节的流量传感器进行K系数的调节，其特征在于：所述流量传感器包括设置有流通腔的腔体（1）和分别安装在流通腔内的前导流体（2）、后导流体（4）、涡轮机构；所述流通腔包括同向依次设置的前腔室（11）、中腔室（12）、后腔室（13）以及设置在中腔室（12）侧壁的安装室，安装在前腔室（11）的前导流体（2）和安装在后腔室（13）的后导流体（4）通过涡轮机构连接；所述涡轮机构包括端部分别通过轴承（31）与前导流体（2）、后导流体（4）连接的连接轴，以及与连接轴采用过盈配合关系安装在连接轴上的采用导磁材料制成的涡轮本体（3）；所述中腔室（12）呈一端为大端、另一端的锥台状空间，且所述涡轮本体（3）位于中腔室（12）中；所述安装室中安装信号感应组件（5），当涡轮本体（3）旋转时能切割信号感应组件（5）形成的磁场；所述方法采用调节涡轮本体（3）在连接轴上相对位置的方式，调整流量传感器K系数。

2.根据权利要求1所述的一种通过改变涡轮位置调节K系数的方法，其特征在于：所述前腔室（11）和后腔室（13）呈圆柱状，且前腔室（11）、中腔室（12）、后腔室（13）的中轴线在同一直线上。

3.根据权利要求2所述的一种通过改变涡轮位置调节K系数的方法，其特征在于：所述轴承（31）的中轴线与中腔室（12）的中轴线在同一直线上。

4.根据权利要求1所述的一种通过改变涡轮位置调节K系数的方法，其特征在于：所述腔体（1）还设置有用于安装在信号感应组件（5）的安装室；所述安装室与中腔室（12）连通。

5.一种通过改变涡轮位置调节K系数的方法，对K系数可调节的流量传感器进行K系数的调节，其特征在于：所述流量传感器包括设置有流通腔的腔体（1）和分别安装在流通腔内的前导流体（2）、后导流体（4）、涡轮机构；所述流通腔包括同向依次设置的前腔室（11）、中腔室（12）、后腔室（13）以及设置在中腔室（12）侧壁的安装室，安装在前腔室（11）的前导流体（2）和安装在后腔室（13）的后导流体（4）通过涡轮机构连接；所述涡轮机构包括端部分别通过轴承（31）与前导流体（2）、后导流体（4）连接的连接轴，以及固定安装在连接轴上的涡轮本体（3）；所述中腔室（12）呈一端为大端、另一端的锥台状空间，且采用导磁材料制成的涡轮本体（3）位于中腔室（12）中；所述安装室中安装信号感应组件（5），当涡轮本体（3）旋转时能切割信号感应组件（5）形成的磁场；所述方法通过调节涡轮机构在中腔室（12）中的相对位置，改变涡轮本体（3）与腔体（1）内壁的间隙，从而调整流量传感器K系数。

6.根据权利要求5所述的一种通过改变涡轮位置调节K系数的方法，其特征在于：所述前腔室（11）和后腔室（13）呈圆柱状，且前腔室（11）、中腔室（12）、后腔室（13）的中轴线在同一直线上。

7.根据权利要求6所述的一种通过改变涡轮位置调节K系数的方法，其特征在于：所述轴承（31）的中轴线与中腔室（12）的中轴线在同一直线上。

8.根据权利要求5所述的一种通过改变涡轮位置调节K系数的方法，其特征在于：所述腔体（1）还设置有用于安装在信号感应组件（5）的安装室；所述安装室与中腔室（12）连通。