[发明专利]阵列基板及其制备方法

说明书

本发明公开了一种阵列基板及其制备方法，该制备方法包括：沿垂直于玻璃基板的方向，在所述玻璃基板上依次铺设隔离层、金属层和光阻膜层；对所述光阻膜层进行曝光显影处理；对所述隔离层和所述金属层进行初蚀刻处理；对所述金属层进行二次蚀刻处理，使得沿所述玻璃基板的平面方向，所述隔离层的外周与所述金属层的外周之间的间距为0.1‑0.8μm；去除所述光阻膜层。本发明的制备方法简单，所制备得到的阵列基板在应用过程中，能够显著改善液晶面板的暗态漏光现象，提升产品对比度。

技术领域

本发明涉及液晶面板技术领域，具体涉及一种阵列基板及其制备方法。

背景技术

液晶面板(Liquid Crystal Display，LCD)是决定液晶显示器亮度、对比度、色彩、可视角度的材料，液晶面板的质量、技术的好坏关系到液晶显示器整体性能的高低。

LCD面板中，通常包括两片大玻璃基板，两片玻璃基板之间设有由液晶、彩色滤波片、配向膜等制成的夹板，两片玻璃基板外侧对应设置有两片偏光板。背光经过下偏光板后成为线偏振光，其掠过金属线边缘时，由于金属消偏作用，线偏振光会成为椭圆偏振光，这种情况导致会有光线可以通过上偏光板，从而造成暗态漏光，严重影响产品的对比度。

改善金属漏光的方法有很多，诸如改变金属线的材料(银、铝、铜等)、降低金属线的厚度、降低金属线边缘的倾角等。上述方法能够一定程度上改善金属漏光的情况，但其效果有待进一步提高；并且，改变金属线材料和/或金属线厚度，可能会导致金属线本身的性能发生变化。

发明内容

本发明实施例提供一种阵列基板及其制备方法，以解决现有技术中液晶面板存在金属漏光现象而影响产品质量的技术问题。

一方面，本发明提供一种阵列基板的制备方法，包括：沿垂直于玻璃基板的方向，在玻璃基板上依次铺设隔离层、金属层和光阻膜层；

对光阻膜层进行曝光显影处理；

对隔离层和金属层进行初蚀刻处理；

对金属层进行二次蚀刻处理，使得沿玻璃基板的平面方向，隔离层的外周与金属层的外周之间的间距为0.1-0.8μm；

去除光阻膜层。

在玻璃基板的一侧顺序铺设隔离层、金属层和光阻膜层，其具体的铺设方法可以采用化学沉积、溅射或其他常规方式，只要能够满足要求即可。对光阻膜层进行显影处理和剥离的方式采用目前常规方式即可。其中，金属层上铺设的光阻膜层的厚度和范围大小可根据金属层和隔离层的形状或蚀刻范围适应性设置。

在进行初蚀刻处理时，对隔离层和金属层同时进行蚀刻处理。在进行初蚀刻处理时，沿玻璃基板的平面方向，隔离层的外周和金属层的外周之间的间距约为零或相差较小距离。通常来说，隔离层的外周和对应的玻璃基板边缘之间的距离略小于金属层的外周与对应的玻璃基板边缘之间的距离。

当二次蚀刻处理时，隔离层不被蚀刻处理，隔离层的外周与对应的玻璃基板边缘之间的距离保持不变。仅只对金属层进行蚀刻处理，使得金属层的外周与对应的玻璃基板边缘之间的距离扩大。则沿玻璃基板的平面方向，能够调控隔离层的外周与金属层的外周之间的间距L保持在0.1-0.8μm。

其中，形成隔离层的材料为钼、钛、铌和铊中的至少两种。金属层为铜层、银层或其他能够作为电极的金属层状物。通常情况下，金属层为铜层。形成隔离层的材料采用钼、钛、铌和铊中的至少两种，形成合金隔离层，采用此种材料的隔离层，不仅能够有利于增强金属层与玻璃基板之间的粘附能力；同时，在两步蚀刻的处理过程中，还有利于二次蚀刻处理时，在蚀刻金属层的同时，隔离层不易被蚀刻，易于二次蚀刻处理时试剂的选择和蚀刻过程的控制。

采用上述两步蚀刻的处理方法，能够精准地控制隔离层的外周与金属层的外周之间的间距，减少或避免线偏振光掠过金属层侧部边缘，从而有效改善金属暗态漏光的现象，能够提升LCD产品的对比度。