[发明专利]一种单晶生长过程压力监控系统

权利要求书

1.一种单晶生长过程压力监控系统，包括底板(1)，其特征在于：所述底板(1)顶部固定连接有石英坩埚(2)和储气罐(3)，所述石英坩埚(2)位于储气罐(3)一侧，所述石英坩埚(2)一侧设有压紧机构；

所述压紧机构包括密封罩(4)，所述密封罩(4)固定连接在石英坩埚(2)一侧，所述密封罩(4)位于石英坩埚(2)和储气罐(3)内侧，所述密封罩(4)内部嵌设有基座(5)，所述基座(5)与石英坩埚(2)一侧固定连接，所述密封罩(4)顶部固定连接有电机(6)，所述基座(5)顶部开设有空腔，所述电机(6)输出轴延伸至空腔内部，所述电机(6)输出轴底端固定连接有第一锥齿轮(7)，所述空腔内部嵌设有转轴(8)，所述转轴(8)两端分别延伸至空腔两侧内部，所述转轴(8)外侧固定套接有第二锥齿轮(9)，所述第二锥齿轮(9)位于第一锥齿轮(7)底部，所述第二锥齿轮(9)与第一锥齿轮(7)啮合连接，所述转轴(8)外侧固定套接有两个第三锥齿轮(10)，两个所述第三锥齿轮(10)分别位于第二锥齿轮(9)两侧，所述基座(5)两侧内壁均开设有限位槽，所述石英坩埚(2)一侧固定连接有接口(11)，所述接口(11)一端设有支管(12)，所述支管(12)一端延伸至密封罩(4)一侧外部，所述基座(5)内部嵌设有两个夹座(13)，两个所述夹座(13)分别位于接口(11)顶部和底部两侧，两个所述夹座(13)两侧均固定连接有限位座(14)，两个所述限位槽内部均嵌设有螺纹杆(15)，所述螺纹杆(15)套设在限位座(14)内部，所述螺纹杆(15)与限位座(14)螺纹连接，两个所述螺纹杆(15)顶端均延伸至空腔内部，两个所述螺纹杆(15)底端均延伸至基座(5)底部，两个所述螺纹杆(15)顶端均固定连接有第四锥齿轮(16)，两个所述第四锥齿轮(16)分别位于两个第三锥齿轮(10)底部，所述第四锥齿轮(16)与第三锥齿轮(10)啮合连接，所述储气罐(3)一侧固定连接有气泵(17)，所述气泵(17)进气端与支管(12)底端固定连接，所述气泵(17)出气端固定连接有出气管(18)，所述出气管(18)底端与储气罐(3)固定连接，所述支管(12)上设有第一电磁阀(19)，所述出气管(18)上设有第二电磁阀(20)；

所述石英坩埚(2)顶部内壁固定连接有温度传感器(21)、第一压力传感器(22)和湿度传感器(23)，所述第一压力传感器(22)位于温度传感器(21)和湿度传感器(23)内侧，所述密封罩(4)顶部内壁固定连接有第二压力传感器(24)，所述储气罐(3)顶部内壁固定连接有第三压力传感器(25)，所述储气罐(3)顶部固定连接有机箱(26)，所述机箱(26)前侧固定嵌设有显示器(27)，所述机箱(26)内部固定嵌设安装有中央处理器(28)，所述机箱(26)顶部固定连接有警报器(29)；

所述支管(12)一端延伸至接口(11)内部，所述支管(12)与接口(11)连接处通过螺纹固定连接，所述支管(12)外侧套设有密封圈(31)，所述密封圈(31)位于支管(12)和接口(11)内侧。

2.根据权利要求1所述的一种单晶生长过程压力监控系统，其特征在于：所述温度传感器(21)、第一压力传感器(22)、第二压力传感器(24)、第三压力传感器(25)和湿度传感器(23)均与中央处理器(28)输入端电性连接，所述电机(6)、第一电磁阀(19)、第二电磁阀(20)、显示器(27)和警报器(29)均与中央处理器(28)输出端电性连接。

3.根据权利要求1所述的一种单晶生长过程压力监控系统，其特征在于：四个所述夹座(13)呈均匀状分布在两个限位槽内部，所述限位座(14)与限位槽相匹配。

4.根据权利要求1所述的一种单晶生长过程压力监控系统，其特征在于：两个所述夹座(13)内侧均固定连接有橡胶防滑垫(30)。

5.根据权利要求1所述的一种单晶生长过程压力监控系统，其特征在于：所述密封罩(4)底部固定连接有斜板(32)，所述斜板(32)底端与石英坩埚(2)一侧固定连接。