[发明专利]等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202011216079.3 | 申请日： | 2020-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN112863985A | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 池田信太郎;花冈秀敏;田丸直树 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;朴秀玉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种等离子体处理装置，包括：
第一部件，设置在处理容器内；以及
第二部件，设置在所述第一部件的外侧，
其中，在所述第一部件和所述第二部件中的至少任意一者上，形成有用于使气体向所述第一部件与所述第二部件之间的间隙流动的流路。
2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，
用于使气体向所述间隙流动的所述流路等间隔地设置。
3.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其中，
用于使气体向所述间隙流动的所述流路与用于供给所述气体的流路中的最外侧的流路连接。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的等离子体处理装置，其中，
用于使气体向所述间隙流动的所述流路具有向所述间隙沿周向开放的凹部。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的等离子体处理装置，其中，
用于供给气体的所述流路包括贯穿所述第一部件和所述第二部件中的至少任意一者的流路，
用于使气体向所述间隙流动的所述流路从进行贯穿的所述流路中的至少任意一者分岔。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的等离子体处理装置，其中，
能够对所述第一部件和所述第二部件中的至少任意一者施加直流电压。
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