[发明专利]基板处理设备

权利要求书

1.一种基板处理设备，包括：

基板支撑单元；

围绕基板支撑单元的至少一个环；

基板支撑单元上的处理单元；以及

排气单元，其连接到基板支撑单元和处理单元之间的反应空间，

其中，所述反应空间中的第一气体通过第一通道传输到排气单元，

所述基板支撑单元下方的下部空间中的第二气体通过第二通道传输到排气单元，并且

所述第一通道和第二通道被所述至少一个环分离。

2.根据权利要求1所述的基板处理设备，

其中，所述至少一个环包括：

围绕所述基板支撑单元的外环；以及

在所述基板支撑单元和外环之间的流动控制环。

3.根据权利要求2所述的基板处理设备，

其中，所述第一通道和第二通道被所述外环分离。

4.根据权利要求3所述的基板处理设备，

其中，所述流动控制环包括：

第一部分，其与所述基板支撑单元的至少一部分重叠；

第二部分，其沿着基板支撑单元的侧面从所述第一部分延伸；以及

第三部分，其从所述第二部分与所述外环的至少一部分重叠。

5.根据权利要求4所述的基板处理设备，

其中，所述排气单元和外环中的至少一个包括弯曲结构，

所述流动控制环的第二部分和外环彼此分开以形成空间，并且

所述弯曲结构构造成有助于将位于所述空间中的反应气体排出到第一通道。

6.根据权利要求3所述的基板处理设备，还包括：

支撑件，其构造为支撑所述处理单元和排气单元，

所述第一通道形成在所述排气单元和外环之间，并且

所述第二通道形成在所述外环和支撑件之间。

7.根据权利要求3所述的基板处理设备，

其中，所述基板支撑单元构造成可竖直移动，并且

随着基板支撑单元向上移动所述流动控制环与基板支撑单元和外环表面接触，并根据基板支撑单元的竖直移动而上下移动。

8.根据权利要求7所述的基板处理设备，

其中，所述第一通道的排气效率和所述第二通道的排气效率随所述基板支撑单元的竖直移动的程度而变化。

9.根据权利要求2所述的基板处理设备，

其中，所述第一通道和第二通道被所述流动控制环分离。

10.根据权利要求9所述的基板处理设备，

其中，所述流动控制环包括：

第一部分，其与所述外环的至少一部分重叠；以及

第二部分，其沿着所述基板支撑单元的侧面从所述第一部分延伸。

11.根据权利要求10所述的基板处理设备，还包括：

支撑件，其构造为支撑所述处理单元和排气单元，

其中，所述第一通道在所述排气单元和流动控制环之间，并且

所述第二通道形成在所述流动控制环和外环之间。

12.根据权利要求10所述的基板处理设备，

其中，所述基板支撑单元构造成可竖直移动，并且

当所述基板支撑单元向上移动时，所述流动控制环在通过基板支撑单元的推力相对于所述外环滑动的同时自对准。

13.一种基板处理设备，包括：

基板支撑单元；

围绕基板支撑单元的至少一个环；

基板支撑单元上的处理单元；以及

排气单元，其连接到基板支撑单元和处理单元之间的反应空间，

其中，所述反应空间通过所述排气单元和至少一个环之间的第一通道与排气单元的排气空间连通，并且

随着所述基板支撑单元向上移动，所述至少一个环与基板支撑单元表面接触，根据基板支撑单元的竖直移动而上下移动。