[发明专利]双室高效镀膜机在审

专利信息
申请号: 202011191560.1 申请日: 2020-10-30
公开(公告)号: CN112281134A 公开(公告)日: 2021-01-29
发明(设计)人: 金诚明;徐鑫;祝海生;孙桂红;黄乐;黄国兴 申请(专利权)人: 湘潭宏大真空技术股份有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/35
代理公司: 湖南乔熹知识产权代理事务所(普通合伙) 43262 代理人: 安曼
地址: 411100 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 高效 镀膜
【说明书】:

发明公开一种双室高效镀膜机,双室高效镀膜机包括运输台以及镀膜系统,所述运输台与所述镀膜系统相连通,所述镀膜系统包括第一处理室以及第二处理室,所述第一处理室与所述运输台连通,所述运输台用于承载工件并将所述工件传输至所述第一处理室中,所述第一处理室远离所述运输台的一侧与所述第二处理室相连通,所述第一处理室用于对所述工件进行前处理并将所述工件传输至第二处理室中进行镀膜。本发明提供了一种镀膜效率高的双室高效镀膜机。

技术领域

本发明涉及真空领域,尤其涉及一种双室高效镀膜机。

背景技术

真空镀膜是目前较为前沿的镀膜技术,而真空镀膜中的磁控溅射镀膜法采用通过通电阳极放出电子,并使电子在电场的加速作用下与真空腔内的气体分子碰撞,从而使气体分子电离,而电离的气体分子又在电场的作用下轰击阴极上的金属粒子,使金属粒子电离溅射,并使得电离出来的金属离子沉积于靶材表面形成薄膜,其中为了使电子能够更加高效的与气体分子进行碰撞,从而提高气体分子电离率,采用在阴极内部装入磁铁形成磁控阴极,因此电子在电场及磁场的共同作用下,将会在真空腔内形成螺旋式轨迹来增加电子与气体分子的碰撞概率。目前所使用的磁控溅射真空镀膜机为单加工室,在实际生产中,由于在每次镀膜前都需要对工件进行处理后再对加工室进行抽真空,因此在上次镀膜完成后需要重新将加工室内恢复正常气压并对工件进行前处理后再重新将加工室内抽取真空,因而会极大地降低镀膜效率。

发明内容

本发明的主要目的是提供一种双室高效镀膜机,旨在提高镀膜效率。

为实现上述目的,本发明提出的一种双室高效镀膜机包括运输台以及镀膜系统,所述运输台与所述镀膜系统相连通,所述镀膜系统包括第一处理室以及第二处理室,所述第一处理室与所述运输台连通,所述运输台用于承载工件并将所述工件传输至所述第一处理室中,所述第一处理室远离所述运输台的一侧与所述第二处理室相连通,所述第一处理室用于对所述工件进行前处理并将所述工件传输至第二处理室中进行镀膜。

在一实施例中,所述运输台包括承载架以及滑动设置在所述承载架上的工件架,所述工件架用于承载所述工件,以带动通过所述工件架带动所述工件在所述承载架上滑动。

在一实施例中,沿所述运输台的长度方向形成有第一工位、第二工位以及第三工位,所述工件架能够在所述第一工位、所述第二工位以及所述第三工位上流转,所述第一工位与所述第三工位分设与所述第二工位两侧,第二工位与所述第一处理室相连通。

在一实施例中,所述工件架呈圆形,所述运输台还包括驱动电机,所述驱动电机与所述工件架连接,以驱动所述工件架饶其自身轴心旋转以带动所述工件做圆周运动。

在一实施例中,所述双室高效镀膜机还包括第一阻断阀和第二阻断阀,所述第一处理室与所述第三工位之间设有所述第一阻断阀,所述第一处理室与所述第二处理室之间设有所述第二阻断阀。

在一实施例中,所述第一处理室外部设有与所述第一处理室的内腔连通的第一安装仓,所述第二处理室外部设有与所述第二处理室的内腔连通的第二安装仓,所述第一安装仓内设有处理装置,所述第二安装仓内设有镀膜装置。

在一实施例中,所述镀膜装置包括至少一对用于对所述工件镀膜的阴极。

在一实施例中,所述处理装置为蒸发器、离子源清洗器以及镀膜装置中的任一种。

在一实施例中,所述第二处理室的外部还设有与所述第二处理室的内腔连通的电感耦合射频等离子体激发源。

在一实施例中,所述双室高效镀膜机还包括真空抽取系统,所述真空抽取系统与所述第一处理室和/或所述第二处理室连通以对应抽取所述第一处理室和所述第二处理室内的气体。

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