[发明专利]一种晶圆表面杂质取样装置

权利要求书

1.一种晶圆表面杂质取样装置，其特征在于，所述装置包括：取样喷嘴和旋转台；其中，

所述旋转台用于承载晶圆，并带动所述晶圆旋转；所述旋转台用于承载所述晶圆的表面为承载面；

所述取样喷嘴在所述承载面上与所述旋转台相对设置，所述取样喷嘴朝向所述旋转台的底表面呈长条形，所述长条形的长边沿第一方向延伸；所述第一方向为所述旋转台中心到所述旋转台边缘的方向；

所述取样喷嘴包括同轴设置的外部喷嘴架和内部扫描喷嘴；

所述内部扫描喷嘴用于通过所述底表面喷洒扫描液到所述晶圆上，并回收所述晶圆上的扫描液；

所述外部喷嘴架和内部扫描喷嘴之间构成气体腔室，以将所述扫描液阻隔在所述取样喷嘴内；

所述气体腔室沿第二方向分隔为互不连通的前端气体腔室和后端气体腔室，所述第二方向为所述底表面上垂直于所述第一方向的方向。

2.根据权利要求1所述的晶圆表面杂质取样装置，其特征在于，

所述取样喷嘴沿第一方向上的长度与所述取样喷嘴沿第二方向上的长度的比值大于等于8，所述第二方向为所述底表面上垂直于所述第一方向的方向。

3.根据权利要求1所述的晶圆表面杂质取样装置，其特征在于，

所述取样喷嘴沿第一方向上的长度为4cm-6cm；

所述取样喷嘴沿第二方向上的长度为0.3cm-0.6cm，

所述第二方向为所述底表面上垂直于所述第一方向的方向。

4.根据权利要求1所述的晶圆表面杂质取样装置，其特征在于，所述装置还包括：前端气体管道、后端气体管道和扫描液管道；其中，

所述前端气体管道与所述前端气体腔室连接，所述后端气体管道与所述后端气体腔室连接；

所述扫描液管道与所述内部扫描喷嘴连接。

5.根据权利要求1所述的晶圆表面杂质取样装置，其特征在于，所述装置还包括：第一加压组件和第二加压组件；其中，

所述第一加压组件与所述前端气体腔室连接，所述第一加压组件用于独立控制所述前端气体腔室的压力；

所述第二加压组件与所述后端气体腔室连接，所述第二加压组件用于独立控制所述后端气体腔室的压力。

6.根据权利要求1所述的晶圆表面杂质取样装置，其特征在于，

所述内部扫描喷嘴的下缘与所述旋转台之间的距离小于所述外部喷嘴架的下缘与所述旋转台之间的距离。

7.根据权利要求1所述的晶圆表面杂质取样装置，其特征在于，

所述外部喷嘴架的下缘与所述旋转台之间的距离可调节。

8.根据权利要求1～7任一项所述的晶圆表面杂质取样装置，其特征在于，所述装置还包括：调节螺杆；

所述调节螺杆与所述内部扫描喷嘴活动连接，与所述外部喷嘴架固定连接；

所述调节螺杆用于调节所述外部喷嘴架与所述旋转台之间的距离。

9.根据权利要求8所述的晶圆表面杂质取样装置，其特征在于，

所述调节螺杆包括第一调节螺杆和第二调节螺杆；所述第一调节螺杆和所述第二调节螺杆用于共同调节所述外部喷嘴架与所述旋转台之间的距离；

所述第一调节螺杆设置在所述取样喷嘴上靠近所述旋转台中心的一侧，所述第二调节螺杆设置在所述取样喷嘴上靠近所述旋转台边缘的一侧。

10.根据权利要求1～7任一项所述的晶圆表面杂质取样装置，其特征在于，

所述内部扫描喷嘴包括拱形部和棱台部；所述拱形部的下缘与所述棱台部的上缘连接；

所述棱台部的侧壁从所述棱台部的上缘到所述棱台部的下缘向靠近所述取样喷嘴轴心的方向倾斜。