[发明专利]一种高SiO2 在审
| 申请号： | 202011187277.1 | 申请日： | 2020-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN112391523A | 公开（公告）日： | 2021-02-23 |
| 发明（设计）人： | 师学峰;胡长庆;龙跃;胡启辰;韩伟刚;李永生;韩涛;王志星 | 申请（专利权）人： | 华北理工大学;河北中科智源新材料技术有限公司 |
| 主分类号： | C22B1/02 | 分类号： | C22B1/02 |
| 代理公司： | 北京东方汇众知识产权代理事务所(普通合伙) 11296 | 代理人： | 王庆彬 |
| 地址： | 063000 河北省唐*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 sio base sub | ||
【权利要求书】：
1.一种高SiO2熔剂性球团回转窑过程焙烧控制方法，其特征在于，包括：通过调控组元组成及生产过程温控，实现链篦机回转窑生产高SiO2熔剂性球团高效顺行。
2.根据权利要求1所述的一种高SiO2熔剂性球团回转窑过程焙烧控制方法，其二元碱度(R＝CaO/SiO2)为：1.2R0.8。
3.根据权利要求1所述的一种高SiO2熔剂性球团回转窑过程焙烧控制方法，其SiO2含量为0.45-0.6。
4.根据权利要求1所述的一种高SiO2熔剂性球团回转窑过程焙烧控制方法，其爆裂温度大于550℃。
5.根据权利要求1所述的一种高SiO2熔剂性球团回转窑过程焙烧控制方法，其控制MgO含量为2.2％(质量百分比)目的在于控制铁橄榄石类低熔点固溶体的形成。
6.根据权利要求1所述的一种高SiO2熔剂性球团回转窑过程焙烧控制方法，其生产过程链篦机料层高度为350mm。
7.根据权利要求1所述的一种高SiO2熔剂性球团回转窑过程焙烧控制方法，其爆裂温度大于550℃。
8.根据权利要求1所述的一种高SiO2熔剂性球团回转窑过程焙烧控制方法，回转窑所用燃料为无烟煤，其固定碳含量70。
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