[发明专利]离子注入机台中硅片掉落的监测系统及方法有效
| 申请号： | 202011169706.2 | 申请日： | 2020-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN112201602B | 公开（公告）日： | 2022-10-28 |
| 发明（设计）人： | 曹志伟;郑刚;张召;金新 | 申请（专利权）人： | 华虹半导体（无锡）有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01J37/317 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 罗雅文 |
| 地址： | 214028 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 离子 注入 机台 硅片 掉落 监测 系统 方法 | ||
1.一种离子注入机台中硅片掉落的监控系统，其特征在于，所述系统包括光源发射器、光源接收装置；
所述光源发射器与所述光源接收装置分别与离子注入机台的控制系统连接；
所述光源发射器用于发射可见光；
所述光源接收装置用于接收被载片盘反射的可见光，并根据接收的可见光的波长检测所述载片盘上吸附的硅片是否发生掉落，所述光源接收装置用于检测接收到的可见光的波长是否与预设波长一致，并根据检测结果判断所述载片盘上吸附的硅片是否发生掉落。
2.根据权利要求1所述的离子注入机台中硅片掉落的监控系统，其特征在于，所述光源接收装置包括光传感器和处理器；
所述光传感器用于接收被载片盘反射的可见光，并生成电信号；
所述处理器用于接收所述光传感器生成的电信号，并根据所述电信号检测所述载片盘上吸附的硅片是否发生掉落。
3.根据权利要求1所述的离子注入机台中硅片掉落的监控系统，其特征在于，当所述光源接收装置检测到所述载片盘上吸附的硅片发生掉落时，所述光源接收装置用于向所述离子注入机台的控制系统发送警报信息。
4.一种离子注入机台中硅片掉落的监控方法，其特征在于，应用于如权利要求1至3任一所述的离子注入机台中硅片掉落的监控系统，所述方法包括：
在离子注入机台的载片盘上吸附有硅片时，通过光源发射器发射可见光；
通过光源接收装置接收载片盘反射的可见光；
通过光源接收装置检测接收到的可见光的波长是否与预设波长一致，并根据检测结果判断所述载片盘上吸附的硅片是否发生掉落。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述光源接收装置包括光传感器和处理器；
所述通过光源接收装置接收载片盘反射的可见光，包括：
通过所述光传感器接收被载片盘表面反射的可见光，并生成电信号；
通过所述处理器接收所述光传感器生成的电信号，并根据所述电信号检测所述载片盘上吸附的硅片是否发生掉落。
6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：
当检测到所述载片盘上吸附的硅片发生掉落时，通过所述光源接收装置向所述离子注入机台的控制系统发送警报信息。
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