[发明专利]显示面板及其制备方法、显示装置在审
| 申请号: | 202011155669.X | 申请日: | 2020-10-26 |
| 公开(公告)号: | CN112289835A | 公开(公告)日: | 2021-01-29 |
| 发明(设计)人: | 张福阳 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/00;H01L51/56 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 何辉 |
| 地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 显示 面板 及其 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括:
一缓冲层,所述缓冲层设置于一刚性基板上;
一牺牲层,所述牺牲层设置于所述缓冲层背离所述刚性基板的一侧表面上;以及,
一柔性基板,所述柔性基板设置于所述牺牲层背离所述缓冲层的一侧表面上。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述牺牲层的厚度范围为1nm~100nm。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述缓冲层的厚度范围为10nm~1000nm。
4.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述牺牲层的材料为非晶硅。
5.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述缓冲层的材料选自氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、碳氧化硅以及碳氮氧化硅中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述柔性基板的材料为透明聚酰亚胺、二氧化硅以及氮化硅的组合。
7.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括功能层,所述功能层设置于所述柔性基板背离所述刚性基板的一侧表面上,所述功能层包括层叠设置的一薄膜晶体管层、一发光器件层及一封装层。
8.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括如权利要求1至7中任一项所述的显示面板。
9.一种显示面板的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:
提供一刚性基板并在所述刚性基板上形成一缓冲层;
在所述缓冲层背离所述刚性基板的一侧表面上形成一牺牲层;其中,所述牺牲层的材料为非晶硅;
在所述牺牲层背离所述缓冲层的一侧表面上形成一柔性基板;以及,
在所述柔性基板背离所述牺牲层的一侧形成功能层后,将所述刚性基板与所述柔性基板分离。
10.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,将所述刚性基板与所述柔性基板分离的步骤包括:通过在高温环境下对所述牺牲层进行激光处理产生氢爆,使得所述刚性基板与所述柔性基板分离。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





