[发明专利]一种胶体模切防反离型加工工艺

权利要求书

1.一种胶体模切防反离型加工工艺，其特征在于：包括以下步骤：

S1)备料：材料为胶体，胶体上方带有第一离型膜以及下方带有第二离型膜，第二离型膜的左右两侧分别延伸至胶体外，第二离型膜的左右两侧分别贴有转移膜；

S2)第一次冲型：通过输送机构将材料输送到模切机上，用第一冲针在两个转移膜位置冲第一定位孔，第一定位孔为全断，同时通过上模切刀从第一离型膜一侧往下冲切对胶体进行第一次外形模切，将材料切成半断至第二离型膜，第一次外形模切至少保留产品的一侧边缘，第一次冲型完成后进行排废；S3)更换承载膜：将第一离型膜撕下并贴上承载膜，承载膜与转移膜的左右两侧边缘位置通过固定膜粘接；

S4)更换第三离型膜：将第二离型膜撕下并在胶体与转移膜下方贴上第三离型膜；

S5)第二次冲型：通过下模切刀从第三离型膜一侧往上冲切对胶体进行第二次外形模切，第二次外形模切将第一次外形模切时产品未切出的部分全部切出，第二次模切将材料切成半断至承载膜上，二次冲型完成后进行排废；

S6)裁边：对材料的左右两侧进行裁切并将转移膜切出；

S7)更换底膜：将第三离型膜撕下并在胶体下方贴合底膜。

2.根据权利要求1所述的一种胶体模切防反离型加工工艺，其特征在于：在步骤S5与步骤S6之间，还包括步骤S5.1贴托底膜：在承载膜上方贴托底膜；步骤S6中，在裁边的同时，通过第二冲针从下方对承载膜冲切第二定位孔，第二定位孔冲断至托底膜；在步骤S6与步骤S7之间，还包括步骤S6.1撕托底膜：将托底膜撕下并将步骤S6中裁边的废料以及冲第二定位孔的废料带出。

3.根据权利要求1所述的一种胶体模切防反离型加工工艺，其特征在于：所述步骤S7后，还包括步骤S8断张：将材料切断成指定长度。