[发明专利]一种靶材表面的清洗方法

权利要求书

1.一种靶材表面的清洗方法，其特征在于，所述清洗方法包括以下步骤：

将靶材表面进行流水清洗并擦拭，然后依次进行超声振动清洗、喷射清洗和吹扫干燥，得到清洗完成的靶材。

2.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述靶材包括金属靶材、合金靶材或陶瓷靶材中任意一种或至少两种的组合；

优选地，所述靶材表面包括靶材溅射面和喷砂熔射区域。

3.根据权利要求1或2所述的清洗方法，其特征在于，所述流水清洗为采用超纯水进行靶材表面的冲洗；

优选地，所述擦拭为采用清洁海绵对靶材的溅射面、喷砂熔射区域、密封圈槽和孔槽进行擦洗；

优选地，所述清洁海绵包括擦擦克林海绵或纳米海绵。

4.根据权利要求1-3任一项所述的清洗方法，其特征在于，所述靶材进行流水清洗和擦拭时，靶材置于放置台上；

优选地，所述放置台上垫净化布。

5.根据权利要求1-4任一项所述的清洗方法，其特征在于，所述超声振动清洗采用具有抛动功能的超声波设备，优选为具有抛动轴承支架的超声波设备；

优选地，所述超声振动清洗的介质为超纯水。

6.根据权利要求1-5任一项所述的清洗方法，其特征在于，所述超声振动清洗的功率为1500～2500W；

优选地，所述超声振动清洗的温度为15～25℃；

优选地，所述超声振动清洗的时间为5～15min。

7.根据权利要求1-6任一项所述的清洗方法，其特征在于，所述喷射清洗为采用高压水枪对喷砂熔射区域进行冲击；

优选地，所述高压水枪所用介质为高纯水；

优选地，所述高压水枪的喷射压力为10～25MPa；

优选地，所述喷射清洗的时间为0.5～2min。

8.根据权利要求1-7任一项所述的清洗方法，其特征在于，所述吹扫干燥为采用压缩气体对靶材进行吹扫干燥；

优选地，所述压缩气体包括惰性气体和/或氮气；

优选地，所述压缩气体的压力为0.1～0.3MPa；

优选地，所述吹扫干燥的时间为3～5min。

9.根据权利要求1-8任一项所述的清洗方法，其特征在于，所述靶材清洗完成后进行真空包装；

优选地，所述真空包装时抽真空的时间不少于10s。

10.根据权利要求1-9任一项所述的清洗方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

(1)将靶材表面进行流水清洗并擦拭，所述流水清洗为采用超纯水进行靶材表面的冲洗，所述擦拭为采用清洁海绵对靶材的溅射面、喷砂熔射区域、密封圈槽和孔槽进行擦洗；

(2)将步骤(1)处理后的靶材采用具有抛动功能的超声波设备进行超声振动清洗，所用介质为超纯水，所述超声振动清洗的功率为1500～2500W，温度为15～25℃，时间为5～15min；

(3)将步骤(2)处理后的靶材采用高压水枪对喷砂熔射区域进行喷射清洗，所述高压水枪所用介质为高纯水，喷射清洗的压力为10～25MPa，时间为0.5～2min；

(4)将步骤(3)处理后的靶材采用压缩气体进行吹扫干燥，所述压缩气体包括惰性气体和/或氮气，所述压缩气体的压力为0.1～0.3MPa，吹扫干燥的时间为3～5min，得到清洗完成的靶材。