[发明专利]压印模具、压印模具的制作方法、纳米压印方法

权利要求书

1.一种压印模具，其特征在于，包括：

模具主体，具有压印图形；

无机膜层，覆盖所述模具主体具有所述压印图形的表面；

有机膜层，位于所述无机膜层背离所述模具主体的表面。

2.根据权利要求1所述的压印模具，其特征在于，所述无机膜层为透明膜层。

3.根据权利要求1或2所述的压印模具，其特征在于，所述无机膜层的材料包括金属元素。

4.根据权利要求3所述的压印模具，其特征在于，所述无机膜层包括金属化物膜层。

5.根据权利要求1所述的压印模具，其特征在于，所述有机膜层包括自组装材料膜层。

6.根据权利要求1所述的压印模具，其特征在于，所述无机膜层的厚度为所述有机膜层的厚度为

7.一种压印模具的制作方法，其特征在于，包括：

提供模具主体，所述模具主体具有压印图形；

在所述模具主体表面形成无机膜层，所述无机膜层覆盖所述模具主体具有所述压印图形的表面；

在所述无机膜层上形成有机膜层。

8.一种纳米压印方法，其特征在于，包括：

提供如权利要求1-6中任一项所述的压印模具；

提供基材，并在基材的表面形成压印材料层；

使用所述压印模具对所述压印材料层进行压印；

将所述有机膜层与所述无机膜层分离实现脱模，并形成图形化压印层。

9.根据权利要求8所述的纳米压印方法，其特征在于，所述将所述有机膜层与所述无机膜层分离实现脱模，并形成图形化压印层之后，还包括：

清洗脱模后表面形成有所述无机膜层的所述模具主体；

在清洗后的所述无机膜层表面再次形成有机膜层。

10.根据权利要求8所述的纳米压印方法，其特征在于，使用所述压印模具对所述压印材料层进行压印后，所述压印材料层内形成有若干凹槽，所述凹槽的槽深小于所述压印材料层的厚度，将所述有机膜层与所述无机膜层分离实现脱模，并形成图形化压印层，包括：

将所述有机膜层与所述无机膜层分离实现脱模,；

去除所述有机膜层以及所述压印材料层的在所述凹槽底部残留的部分，以形成图形化压印层。

11.一种硅通孔的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

采用权利要求8-10任一项所述的纳米压印方法在所述基材上形成所述图形化压印层，所述基材为硅片；

基于所述图形化压印层对所述硅片进行刻蚀，以于所述硅片内形成硅通孔。