[发明专利]一种高效低阻口罩用纳米膜材料加工方法

权利要求书

1.一种高效低阻口罩用纳米膜材料加工方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)首先将PTFE微孔膜和迎尘层依次铺设在底层上，形成迎尘层和底层分别位于PTFE微孔膜两侧的三层复合体结构；

(2)将步骤(1)中的三层复合体经过热压处理；

(3)静电处理工艺：将步骤(2)中经过热压处理后的三层复合体置于高压静电设备中进行静电处理，将高压静电设备接通电源后，输出高压正负电流，形成一个高压电场，当三层复合体通过高压电场过程中，在电子流的作用下，产生的静电便附着于基材薄膜上，迎尘层、底层分别与基材薄膜自然粘合到一起，形成纳米膜过滤材料；

(4)将步骤(3)中制得的纳米膜过滤材料通过高温切刀分切成需要的尺寸即可。

2.根据权利要求1所述的一种高效低阻口罩用纳米膜材料加工方法，其特征在于：所述步骤(1)中迎尘层包括无纺布或水刺布。

3.根据权利要求1所述的一种高效低阻口罩用纳米膜材料加工方法，其特征在于：所述步骤(1)中底层包括无纺布或水刺布。

4.根据权利要求1所述的一种高效低阻口罩用纳米膜材料加工方法，其特征在于：所述步骤(2)中热压处理的环境温度为25～35℃。

5.根据权利要求1所述的一种高效低阻口罩用纳米膜材料加工方法，其特征在于：所述步骤(2)中热压处理热压压力0.1～0.5MPa。

6.根据权利要求1所述的一种高效低阻口罩用纳米膜材料加工方法，其特征在于：所述步骤(2)中热压处理过程中三层复合体的走布速度为10～30m/min。

7.根据权利要求1所述的一种高效低阻口罩用纳米膜材料加工方法，其特征在于：所述步骤(3)中高压静电设备的输入电压为交流220V或380V，50Hz。

8.根据权利要求1所述的一种高效低阻口罩用纳米膜材料加工方法，其特征在于：所述步骤(3)中控制静电处理工艺的环境温度为-30～50℃；且当环境温度为25℃时，相对湿度≤85％。

9.根据权利要求1所述的一种高效低阻口罩用纳米膜材料加工方法，其特征在于：所述步骤(3)中静电处理工艺的驻极时间为2～10s。

10.根据权利要求1所述的一种高效低阻口罩用纳米膜材料加工方法，其特征在于：所述步骤(4)中高温切刀分切的温度为70～90℃。