[发明专利]一种量子点图案化方法、显示面板的制作方法和显示面板

权利要求书

1.一种量子点图案化方法，其特征在于，包括：

将量子点与第一物质混合，形成所述量子点被所述第一物质包覆的第一包覆物质；

将所述第一包覆物质形成在衬底基板；

对图案化区域的所述第一包覆物质进行第一处理工艺，以使所述图案化区域的所述第一物质被溶解，所述量子点被暴露；

对所述图案化区域进行第二处理工艺，以使所述图案化区域的所述量子点发生交联；

对所述图案化区域进行第三处理工艺，以使所述图案化区域未发生交联的所述量子点被重新包覆，形成第二包覆物质；

通过溶剂清洗，去除非图案化区域的所述第一包覆物质，以及所述图案化区域被重新包覆的所述第二包覆物质。

2.如权利要求1所述的量子点图案化方法，其特征在于，所述对图案化区域的所述第一包覆物质进行第一处理工艺，包括：

在掩膜板的遮挡下，通过激光照射所述图案化区域的所述第一包覆物质。

3.如权利要求2所述的量子点图案化方法，其特征在于，所述对所述图案化区域进行第二处理工艺，包括：

在所述掩膜板的遮挡下，通过紫外光照射对所述图案化区域的所述量子点。

4.如权利要求3所述的量子点图案化方法，其特征在于，所述对所述图案化区域进行第三处理工艺，包括：

将所述衬底基板放置于冷板，以对所述衬底基板进行降温。

5.如权利要求1-4任一项所述的量子点图案化方法，其特征在于，所述第一物质的材料为温敏型材料。

6.如权利要求5所述的量子点图案化方法，其特征在于，所述温敏型材料包括以下基团之一或组合：

聚乙烯亚胺基团；

酯基；

醇羟基。

7.如权利要求6所述的量子点图案化方法，其特征在于，所述温敏型材料还包括：亲水性基团和疏水性基团。

8.如权利要求7所述的量子点图案化方法，其特征在于，所述量子点包括：量子点本体，与所述量子点本体连接的交联基团；

还包括：亲水性基团或疏水性基团。

9.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括如权利要求1-8任一项所述的量子点图案化方法。

10.一种显示面板，其特征在于，包括采用如权利要求1-8任一项所述的量子点图案化方法制作的量子点膜层。