[发明专利]一种量子点图案化方法、显示面板的制作方法和显示面板在审
| 申请号: | 202011103490.X | 申请日: | 2020-10-15 |
| 公开(公告)号: | CN112234155A | 公开(公告)日: | 2021-01-15 |
| 发明(设计)人: | 卢志高;张宜驰 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L51/50;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 于本双 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 量子 图案 方法 显示 面板 制作方法 | ||
本发明公开了一种量子点图案化方法、显示面板的制作方法和显示面板,以改善非图案化区域会有量子点残留,较难除掉,显示器件混色,器件性能不佳的问题。所述量子点图案化方法,包括:将量子点与第一物质混合,形成所述量子点被所述第一物质包覆的第一包覆物质;对图案化区域的所述第一包覆物质进行第一处理工艺,以使所述图案化区域的所述第一物质被溶解,所述量子点被暴露;对所述图案化区域进行第二处理工艺,以使所述图案化区域的所述量子点发生交联;对所述图案化区域进行第三处理工艺,以使所述图案化区域未发生交联的所述量子点被重新包覆,形成第二包覆物质;通过溶剂清洗。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种量子点图案化方法、显示面板的制作方法和显示面板。
背景技术
量子点曝光直接图案化过程中,由于量子点与基板的相互作用等,非图案化区域会有量子点的残留,并且这种残留的量子点很难除掉,造成了最后器件的混色,影响器件的性能。
发明内容
本发明提供一种量子点图案化方法、显示面板的制作方法和显示面板,以改善非图案化区域会有量子点残留,较难除掉,显示器件混色,器件性能不佳的问题。
本发明实施例提供一种量子点图案化方法,包括:
将量子点与第一物质混合,形成所述量子点被所述第一物质包覆的第一包覆物质;
将所述第一包覆物质形成在衬底基板;
对图案化区域的所述第一包覆物质进行第一处理工艺,以使所述图案化区域的所述第一物质被溶解,所述量子点被暴露;
对所述图案化区域进行第二处理工艺,以使所述图案化区域的所述量子点发生交联;
对所述图案化区域进行第三处理工艺,以使所述图案化区域未发生交联的所述量子点被重新包覆,形成第二包覆物质;
通过溶剂清洗,去除非图案化区域的所述第一包覆物质,以及所述图案化区域被重新包覆的所述第二包覆物质。
在一种可能的实施方式中,所述对图案化区域的所述第一包覆物质进行第一处理工艺,包括:
在掩膜板的遮挡,通过激光照射所述图案化区域的所述第一包覆物质。
在一种可能的实施方式中,所述对所述图案化区域进行第二处理工艺,包括:
在所述掩膜板的遮挡下,通过紫外光照射对所述图案化区域的所述量子点。
在一种可能的实施方式中,所述对所述图案化区域进行第三处理工艺,包括:
将所述衬底基板放置于冷板,以对所述衬底基板进行降温。
在一种可能的实施方式中,所述第一物质的材料为温敏型材料。
在一种可能的实施方式中,所述温敏型材料包括以下基团之一或组合:
聚乙烯亚胺基团;
酯基;
醇羟基。
在一种可能的实施方式中,所述温敏型材料还包括:亲水性基团和疏水性基团。
在一种可能的实施方式中,所述量子点包括:量子点本体,与所述量子点本体连接的交联基团;
还包括:亲水性基团或疏水性基团。
本发明实施例还提供一种显示面板的制作方法,包括如本发明实施例提供的所述的量子点图案化方法。
本发明实施例还提供一种显示面板,包括采用如本发明实施例提供的所述量子点图案化方法制作的量子点膜层。
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