[发明专利]光波导制备方法及光波导

说明书

本发明公开一种光波导制备方法及光波导，其中，所述光波导制备方法，包括以下步骤：提供一衬底，所述衬底上形成有待刻蚀基体，所述待刻蚀基体为无机材料；于所述待刻蚀基体一侧涂覆光刻胶；对所述光刻胶进行纳米压印，以形成纳米压印掩膜；以及采用干法刻蚀对所述纳米压印掩膜和所述待刻蚀基体进行刻蚀，以除去纳米压印掩膜，并在所述待刻蚀基体上形成目标光栅。本发明通过采用无机材料作为待刻蚀基体，在采用干法刻蚀在待刻蚀基体上形成目标光栅，所形成的目标光栅为无机材料，使目标光栅能够具有较高的可靠性，不容易出现变黄的问题，有助于提升光波导的美观性和使用效果。

技术领域

本发明涉及增强现实领域，特别涉及一种光波导制备方法及光波导。

背景技术

现有的AR（Augmented Reality，增强现实）光波导制备方法主要是通过纳米压印的方式在光刻胶上形成光栅图案。直接用纳米压印方式获得的光栅的主要成分是光刻胶，一般都是高分子聚合物，不耐高温高湿，时间久了会变黄，影响美观和使用效果。

发明内容

本发明的主要目的是提出一种光波导制备方法及光波导，旨在改善现有光波导制备方法形成的光栅容易影响美观和使用效果的问题。

为实现上述目的，本发明提出的光波导制备方法，包括以下步骤：

提供一衬底，所述衬底上形成有待刻蚀基体，所述待刻蚀基体为无机材料；

于所述待刻蚀基体一侧涂覆光刻胶；

对所述光刻胶进行纳米压印，以形成纳米压印掩膜；以及

采用干法刻蚀对所述纳米压印掩膜和所述待刻蚀基体进行刻蚀，以除去纳米压印掩膜，并在所述待刻蚀基体上形成目标光栅。

可选地，所述干法刻蚀的刻蚀选择比为1。

可选地，在执行所述提供一衬底，所述衬底上形成有待刻蚀基体，所述待刻蚀基体为无机材料之后，所述光波导制备方法还包括：

于所述衬底上形成薄膜层，所述薄膜层形成所述待刻蚀基体，所述薄膜层的折射率大于所述衬底的折射率。

可选地，所述薄膜层为透明金属氧化物制成。

可选地，所述衬底与所述待刻蚀基体为无机材料一体形成。

可选地，所述衬底的折射率大于或等于1.7。

可选地，所述衬底为玻璃衬底。

可选地，在执行于所述待刻蚀基体一侧涂覆光刻胶的步骤之后，所述光波导制备方法还包括：

预设所述纳米压印掩膜的形貌，并预留所述纳米压印掩膜的刻蚀公差余量。

可选地，所述于所述待刻蚀基体一侧涂覆光刻胶的步骤中，涂覆所述光刻胶的厚度小于或等于所述目标光栅的厚度。

本发明在上述光波导制备方法的基础上，提出一种光波导，所述光波导由如上述所述的光波导制备方法制备得到。

本发明技术方案通过采用无机材料作为待刻蚀基体，在采用干法刻蚀在待刻蚀基体上形成目标光栅，所形成的目标光栅为无机材料，使目标光栅能够具有较高的可靠性，不容易出现变黄的问题，有助于提升光波导的美观性和使用效果。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本发明实施例方案涉及的硬件运行环境的终端结构示意图；