[发明专利]光波导制备方法

说明书

本发明公开一种光波导制备方法，其中，所述光波导制备方法包括以下步骤：提供一衬底；于所述衬底上涂覆纳米压印胶，对所述纳米压印胶进行纳米压印，以形成光栅图形；于所述光栅图形背向所述衬底的表面制作光栅层，所述光栅层为无机材料制成；保留所述光栅图形的光栅凹槽内的光栅层，除去所述光栅图形的纳米压印胶以及纳米压印胶表面的光栅层，以使保留的光栅层形成目标光栅。本发明通过采用无机材料制成光栅层，形成目标光栅之后，可以使目标光栅具有更好的耐高温性能，不会出现长期使用后产生变色的问题；无机材料构成的目标光栅相对硬度较高，不需要单独设置用于保护目标光栅的结构，进而可以简化光波导的结构。

技术领域

本发明涉及增强现实技术领域，特别涉及一种光波导制备方法。

背景技术

现有的AR光波导制备方法主要是在玻璃衬底上涂覆纳米压印胶，再通过纳米压印的方式直接在纳米压印胶上形成光栅图案。由于光栅图形直接形成于纳米压印胶上，光栅的性能与纳米压印胶的性能一致，纳米压印胶通常为高分子材料制成，在受热或长期使用之后，会产生变黄的问题，影响光栅的视觉效果。由于纳米压印胶不耐高温高湿，在长期使用之后，有可能影响光栅的正常光学性能，进而直接影响光波导的光学性能。

发明内容

本发明的主要目的是提出一种光波导制备方法，旨在改善现有纳米压印胶上形成光栅存在的容易变黄、光学性能差的问题。

为实现上述目的，本发明提出的光波导制备方法，所述光波导制备方法包括以下步骤：

提供一衬底；

于所述衬底上涂覆纳米压印胶，对所述纳米压印胶进行纳米压印，以形成光栅图形；

于所述光栅图形背向所述衬底的表面制作光栅层，所述光栅层为无机材料制成；

保留所述光栅图形的光栅凹槽内的光栅层，除去所述光栅图形的纳米压印胶以及纳米压印胶表面的光栅层，以使保留的光栅层形成目标光栅。

可选地，所述光栅层的折射率大于所述衬底的折射率。

可选地，所述光栅层为透明金属氧化物制成。

可选地，所述衬底的折射率大于或等于1.7。

可选地，在执行所述于所述衬底上涂覆纳米压印胶，对所述纳米压印胶进行纳米压印，以形成光栅图形的步骤之后，所述光波导制备方法还包括：

除去所述光栅图形的光栅凹槽内的残胶。

可选地，所述于所述光栅图形背向所述衬底的表面制作光栅层的步骤包括：

对所述光栅图形背向所述衬底的表面镀膜，以使所述光栅图形表面形成所述光栅层。

可选地，所述目标光栅为透射式光栅或反射式光栅。

可选地，所述目标光栅为反射式光栅时，所述目标光栅包括耦入光栅和耦出光栅，在执行保留所述光栅图形的光栅凹槽内的光栅层，除去所述光栅图形的纳米压印胶以及纳米压印胶表面的光栅层，以使保留的光栅层形成目标光栅的步骤之后，所述光波导制备方法还包括：

于所述耦入光栅表面形成反射层。

本发明技术方案通过采用衬底形成光栅图形，由于光栅图形具有光栅凹槽，当将纳米压印胶以及纳米压印胶表面的光栅层除去之后，在光栅凹槽内的光栅层形成目标光栅，进而可以实现以增量的方式在衬底上形成预设参数的目标光栅；由于光栅层为无机材料制成，可以具有更好的耐高温性能，不会出现长期使用后产生变色的问题；在形成目标光栅之后，由于无机材料构成的目标光栅相对硬度较高，不需要单独设置用于保护目标光栅的结构，进而可以简化光波导产品的结构。

附图说明