[发明专利]光波导制备方法在审
| 申请号： | 202011094109.8 | 申请日： | 2020-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN111983751A | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 杜凯凯;赵东峰;李琨;臧法珩;赵恩;程鑫;杨镇源 | 申请（专利权）人： | 歌尔股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/124 | 分类号： | G02B6/124;G02B6/13 |
| 代理公司： | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人： | 关向兰 |
| 地址： | 261031 山东省潍*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 波导 制备 方法 | ||
1.一种光波导制备方法，其特征在于，所述光波导制备方法包括以下步骤：
提供一衬底；
于所述衬底上涂覆纳米压印胶，对所述纳米压印胶进行纳米压印，以形成光栅图形；
于所述光栅图形背向所述衬底的表面制作光栅层，所述光栅层为无机材料制成；
保留所述光栅图形的光栅凹槽内的光栅层，除去所述光栅图形的纳米压印胶以及纳米压印胶表面的光栅层，以使保留的光栅层形成目标光栅。
2.如权利要求1所述的光波导制备方法，其特征在于，所述光栅层的折射率大于所述衬底的折射率。
3.如权利要求2所述的光波导制备方法，其特征在于，所述光栅层为透明金属氧化物制成。
4.如权利要求2所述的光波导制备方法，其特征在于，所述衬底的折射率大于或等于1.7。
5.如权利要求1所述的光波导制备方法，其特征在于，在执行所述于所述衬底上涂覆纳米压印胶，对所述纳米压印胶进行纳米压印，以形成光栅图形的步骤之后，所述光波导制备方法还包括：
除去所述光栅图形的光栅凹槽内的残胶。
6.如权利要求1所述的光波导制备方法，其特征在于，所述于所述光栅图形背向所述衬底的表面制作光栅层的步骤包括：
对所述光栅图形背向所述衬底的表面镀膜，以使所述光栅图形表面形成所述光栅层。
7.如权利要求1所述的光波导制备方法，其特征在于，所述目标光栅为透射式光栅或反射式光栅。
8.如权利要求7所述的光波导制备方法，其特征在于，所述目标光栅为反射式光栅时，所述目标光栅包括耦入光栅和耦出光栅，在执行保留所述光栅图形的光栅凹槽内的光栅层，除去所述光栅图形的纳米压印胶以及纳米压印胶表面的光栅层，以使保留的光栅层形成目标光栅的步骤之后，所述光波导制备方法还包括：
于所述耦入光栅表面形成反射层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于歌尔股份有限公司，未经歌尔股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011094109.8/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
