[发明专利]蒸镀用掩模以及有机EL显示面板的制造方法

说明书

本发明提供一种掩模，在与能够追加开口的显示面板的显示区域外对应的蒸镀用掩模尤其是用于形成评价用试验片的蒸镀用掩模中，即使施加拉伸应力，也难以发生开口的变形以及位置的移动。所述蒸镀用掩模在制造显示面板时的气相生长工序中使用，在为了在所述显示面板的显示区域外侧的面板表面形成质量管理用的图案而在第一方向上施加张力的状态下使用，是在所述第一方向上为长条的形状，其具备：一个以上的第一区域，形成有第一开口；以及一个以上的第二区域，在所述第一方向上与所述第一区域相邻，形成有一个以上的第二开口，所述第二开口的与所述第一方向正交的第二方向上的宽度小于所述第一开口，在所述第二方向上为长条。

技术领域

本发明涉及在真空蒸镀、溅射、CVD等气相生长法中使用的蒸镀用掩模，尤其涉及用于制造显示面板的掩模。

背景技术

作为显示装置的显示元件，正在普及利用有机EL元件等有源元件的显示元件。

显示元件具有在两个电极之间亦即阳极与阴极之间夹有功能层的结构。作为形成功能层、电极的方法，可以利用真空蒸镀法、溅射法、化学气相沉积法(CVD；Chemical VaporDeposition)、原子层沉积法(ALD；Atomic Layer Deposition)等气相生长法来进行形成。在气相生长法中，利用使用荫罩掩模(以下也表记为“蒸镀用掩模”或者只表记为“掩模”)仅在必要的部位进行成膜，由此同时进行成膜以及图案化。

掩模物理性地遮蔽基板的一部分，因此掩模开口与形成的图案为相同的尺寸，基板尺寸与掩模尺寸也为相同的尺寸。因此，伴随面板的大型化，需要掩模的大型化。因此，利用如下的方法：代替基板尺寸的一个掩模，将多个细长方形的掩模组合用作与一个基板对应的掩模(例如参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献1：日本专利公开公报特开2015-28214号

专利文献2：日本专利公开公报特开2014-133934号

专利文献3：日本专利公开公报特开2009-41061号

由于通常将金属用于掩模，所以为了防止因热膨胀、重力负荷等导致的褶皱、弯曲引起的图案的变形，在施加拉伸应力(张力)的状态下保持掩模。但是，在组合多个细长方形的掩模的情况下，由于无法在短轴方向上施加拉伸应力，所以变成仅在长轴方向上施加张力。因此，如果在掩模的开口部周围产生应力集中，则存在如下的情况：开口部周围发生不均匀地伸展或者压缩，发生开口的变形、位置移动，图案化精度降低。

发明内容

本发明的目的在于，提供在与显示面板的显示区域外对应的蒸镀用掩模尤其是用于形成评价用的试验片的蒸镀用掩模中即使施加拉伸应力也不易发生开口的变形以及位置的移动的掩模、以及包括使用该掩模的气相生长工序的显示面板的制造方法。

本发明的一个实施方式涉及的蒸镀用掩模，其是在第一方向上为长条的形状，在制造显示面板时的气相生长工序中使用，在为了在所述显示面板的显示区域外侧的面板表面形成质量管理用的图案而在所述第一方向上施加了张力的状态下使用，所述蒸镀用掩模具备：一个以上的第一区域，形成有第一开口；以及一个以上的第二区域，在所述第一方向上与所述第一区域相邻，形成有一个以上的第二开口，所述第二开口的与所述第一方向正交的第二方向上的宽度小于所述第一开口且在所述第二方向上为长条。

按照上述方式的蒸镀用掩模，能够限制施加了拉伸应力的情况下的第一区域的最大应力以及第二区域的最大应力，能够容易地抑制开口的变形以及位置的移动。因此，能够提高发光面板的气相生长膜的图案化的精度。

附图说明

图1是实施方式的一个方式涉及的蒸镀用掩模100的俯视概略图以及表示使用状态的俯视概略图。

图2是实施方式的一个方式涉及的蒸镀用掩模100的俯视概略图以及表示使用状态的俯视概略图。