[发明专利]蒸镀用掩模以及有机EL显示面板的制造方法

权利要求书

1.一种蒸镀用掩模，其特征在于，

所述蒸镀用掩模是在第一方向上为长条的形状，在制造显示面板时的气相生长工序中使用，在为了在所述显示面板的显示区域外侧的面板表面形成质量管理用的图案而在所述第一方向上施加张力的状态下使用，

所述蒸镀用掩模具备：

一个以上的第一区域，形成有第一开口；以及

一个以上的第二区域，在所述第一方向上与所述第一区域相邻，形成有一个以上的第二开口，所述第二开口的与所述第一方向正交的第二方向上的宽度小于所述第一开口且在所述第二方向上为长条。

2.根据权利要求1所述的蒸镀用掩模，其特征在于，

所述第二方向上的所述第二开口的宽度为所述第二方向上的所述第一开口的宽度的70％以上95％以下。

3.根据权利要求1或2所述的蒸镀用掩模，其特征在于，

所述第一方向上的所述第二开口的宽度为所述第二方向上的所述第二开口的宽度的50％以下。

4.根据权利要求1至3中任意一项所述的蒸镀用掩模，其特征在于，

所述第二开口为沿所述第二方向延伸的矩形，是距所述第一区域的距离大的两个角为圆角的形状。

5.根据权利要求1至4中任意一项所述的蒸镀用掩模，其特征在于，

在所述第二区域还形成有第三开口，所述第三开口的所述第二方向上的宽度小于所述第二开口，

所述第二开口与所述第三开口在所述第一方向上排列，并且所述第三开口比所述第二开口更远离所述第一区域。

6.根据权利要求5所述的蒸镀用掩模，其特征在于，

所述第一方向上的所述第三开口的宽度与所述第一方向上的所述第二开口的宽度相等，

所述第二方向上的所述第三开口的长度为所述第二方向上的所述第二开口的长度的70％以上95％以下。

7.根据权利要求5或6所述的蒸镀用掩模，其特征在于，

所述第三开口为沿所述第二方向延伸的矩形，是距所述第一区域的距离大的两个角为圆角的形状。

8.根据权利要求1至7中任意一项所述的蒸镀用掩模，其特征在于，

在所述第二区域还形成有第四开口，所述第四开口的所述第二方向上的宽度与所述第一开口相同，

所述第二开口与所述第四开口在所述第一方向上排列，并且所述第二开口比所述第四开口更远离所述第一区域。

9.根据权利要求8所述的蒸镀用掩模，其特征在于，

所述第四开口为沿所述第二方向延伸的矩形，是距所述第一区域的距离大的两个角为圆角的形状。

10.根据权利要求1至9中任意一项所述的蒸镀用掩模，其特征在于，

形成在所述第一区域的所述第一开口是用于形成质量管理用的图案的开口，

形成在所述第二区域的所述第二开口是用于缓和所述第一开口的周围的应力的开口。

11.一种有机EL显示面板的制造方法，其特征在于，通过气相生长法对上部电极以及功能层中的一个以上进行成膜，其包括:

在基板上形成像素电极的工序；以及

包含通过气相生长法在所述像素电极上方形成气相成膜层的工序的工序，

在形成所述气相成膜层的工序中，在于第一方向上施加了张力的状态下使用蒸镀用掩模，所述蒸镀用掩模是在所述第一方向上为长条的形状，开设有第一开口以及第二开口，所述第二开口在所述第一方向上与所述第一开口相邻，与所述第一方向正交的第二方向上的宽度小于所述第一开口，在所述第二方向上为长条，

通过形成所述气相成膜层的工序，使用所述第一开口，在所述基板上，在所述有机EL显示面板的显示区域外侧表面形成气相成膜层的质量管理用图案。

12.根据权利要求11所述的有机EL显示面板的制造方法，其特征在于，

所述气相生长法是真空蒸镀法、溅射、CVD以及ALD中的任意一种。