[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其中，

该基板处理装置包括：

旋转台，其保持基板；

旋转驱动部，其使所述旋转台绕旋转轴线旋转；

至少一个电加热器，其设于所述旋转台；

至少一个受电线圈，其设于所述旋转台，与所述电加热器电连接；

至少一个供电线圈，其设置为与所述受电线圈空开间隙，能够与所述受电线圈在所述旋转轴线的方向上相面对；以及

高频电源单元，其向所述供电线圈供给高频电力。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述至少一个电加热器包含第1加热器和第2加热器，

所述至少一个受电线圈包含第1受电线圈和第2受电线圈，

所述至少一个供电线圈包含第1供电线圈和第2供电线圈，

形成包含所述第1加热器和所述第1受电线圈在内的第1共振电路，形成包含所述第2加热器和所述第2受电线圈在内的第2共振电路，作为所述第1共振电路的共振频率的第1共振频率和作为所述第2共振电路的共振频率的第2共振频率互相不同，

所述高频电源单元包含：第1供电部，其向所述第1供电线圈供给与所述第1共振频率相当的频率的高频电力；以及第2供电部，其向所述第2供电线圈供给与所述第2共振频率相当的频率的高频电力。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，

所述第1受电线圈为配置在第1环状区域的圆圈状的线圈，该第1环状区域以所述旋转轴线为中心且距所述旋转轴线的距离为第1距离，

所述第2受电线圈为配置在第2环状区域的圆圈状的线圈，该第2环状区域以所述旋转轴线为中心且距所述旋转轴线的距离为大于所述第1距离的第2距离，

所述第1供电线圈为配置在无论所述旋转台的旋转相位如何都与所述第1受电线圈相面对的位置的圆圈状的线圈，

所述第2供电线圈为配置在无论所述旋转台的旋转相位如何都与所述第2受电线圈相面对的位置的圆圈状的线圈。

4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，

所述第1受电线圈和所述第2受电线圈为分别配置在以所述旋转轴线为中心且距所述旋转轴线的距离为第1距离的环状的受电线圈配置区域内的位于圆周方向上的互相不同的位置的第1部分和第2部分的线圈，

所述第1供电线圈和所述第2供电线圈为分别配置在以所述旋转轴线为中心且距所述旋转轴线的距离为第1距离的环状的供电线圈配置区域内的位于圆周方向上的互相不同的位置的第1部分和第2部分的线圈，

该基板处理装置构成为，根据所述旋转台的旋转相位，在所述第1受电线圈与所述第1供电线圈相面对的状态和不面对的状态之间切换，在所述第2受电线圈与所述第2供电线圈相面对的状态和不面对的状态之间切换。

5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述至少一个电加热器包含第1加热器和第2加热器，

所述至少一个受电线圈包含第1受电线圈和第2受电线圈，

所述至少一个供电线圈包含一个第1供电线圈，该一个第1供电线圈用于向所述第1受电线圈和第2受电线圈供电，

形成包含所述第1加热器和所述第1受电线圈在内的第1共振电路，形成包含所述第2加热器和所述第2受电线圈在内的第2共振电路，作为所述第1共振电路的共振频率的第1共振频率和作为所述第2共振电路的共振频率的第2共振频率互相不同，

所述高频电源单元构成为输出频率可变的高频电源单元，能够选择性地向所述第1供电线圈供给与所述第1共振频率相当的频率的高频电力和与第2共振频率相当的频率的高频电力。

6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中，

所述第1受电线圈为配置在第1环状区域的圆圈状的线圈，该第1环状区域以所述旋转轴线为中心且距所述旋转轴线的距离为第1距离，

所述第2受电线圈为配置在第2环状区域的圆圈状的线圈，该第2环状区域以所述旋转轴线为中心且距所述旋转轴线的距离为大于所述第1距离的第2距离，

所述第1供电线圈为配置为无论所述旋转台的旋转相位如何都与所述第1受电线圈和所述第2受电线圈双方相面对的圆圈状的线圈。