[发明专利]一种半导体沉积设备及半导体设备系统在审

专利信息
申请号: 202011060031.8 申请日: 2020-09-30
公开(公告)号: CN112267106A 公开(公告)日: 2021-01-26
发明(设计)人: 陈卫军 申请(专利权)人: 深圳市晶相技术有限公司
主分类号: C23C16/54 分类号: C23C16/54;C23C16/505;C23C16/34;C23C16/458;C23C16/455;C23C14/56;C23C14/50;C23C14/06;H01L21/02
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 林凡燕
地址: 518000 广东省深圳市坪山*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 半导体 沉积 设备 半导体设备 系统
【权利要求书】:

1.一种半导体沉积设备,其特征在于,包括:

传送腔体,所述传送腔体内设置有机械臂;

至少一可拆卸腔体,设置在所述传送腔体内的外侧,所述机械臂将基板放置在所述可拆卸腔体内,以在所述基板上沉积薄膜;

进气管路,连接所述可拆卸腔体,用于向所述可拆卸腔体内输送气体。

2.根据权利要求1所述的半导体沉积设备,其特征在于,所述进气管路通过进气口连接所述可拆卸腔体,所述进气口设置在所述可拆卸腔体的顶部。

3.根据权利要求1所述的半导体沉积设备,其特征在于,所述进气管路包括第一进气管路和第二进气管路,所述第一进气管路和所述第二进气管路通过转换接头连接。

4.根据权利要求3所述的半导体沉积设备,其特征在于,所述第一进气管路还连接外部气源,所述第一进气管路上设置有第一阀体。

5.根据权利要求3所述的半导体沉积设备,其特征在于,所述第二进气管路的一端延伸至所述可拆卸腔体内,所述第二进气管路延伸至所述可拆卸腔体内的一端连接扩散板。

6.根据权利要求5所述的半导体沉积设备,其特征在于,所述扩散板上设置多个扩散孔。

7.根据权利要求1所述的半导体设备,其特征在于,还包括排气管路,所述排气管路通过排气口连接所述可拆卸腔体,所述排气口设置在所述可拆卸腔体的底部。

8.根据权利要求7所述的半导体沉积设备,其特征在于,还包括第二阀体,所述第二阀体设置在所述排气口上。

9.根据权利要求1所述的半导体沉积设备,其特征在于,所述可拆卸腔体还包括一基板入口,所述基板入口连接锁紧单元,所述锁紧单元用于锁紧所述基板入口。

10.一种半导体设备系统,其特征在于,包括:

多个半导体设备,其中多个所述半导体设备中的至少一个是权利要求1所述的半导体沉积设备。

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