[发明专利]一种晶圆蚀刻深孔残留物清理器

权利要求书

1.一种晶圆蚀刻深孔残留物清理器，其结构包括底座(1)、升降机(2)、操作台(3)、旋转机(4)、清理器(5)，其特征在于：

所述底座(1)顶面与升降机(2)底面焊接连接，所述操作台(3)右侧与升降机(2)左侧相叠合在一起，所述旋转机(4)底面与升降机(2)顶面活动卡合，所述清理器(5)右侧与旋转机(4)左侧活动卡合；

所述清理器(5)包括吸力机(51)、收纳仓(52)、连接块(53)、插台(54)，所述收纳仓(52)顶面与吸力机(51)底面固定连接，所述连接块(53)左侧与插台(54)右侧焊接连接，所述收纳仓(52)底面与插台(54)顶面相互接通。

2.根据权利要求1所述的一种晶圆蚀刻深孔残留物清理器，其特征在于：所述插台(54)包括顶块(541)、旋杆(542)、锁紧结构(543)、轨道(544)、电源(545)、插壳(546)、抛光头(547)，所述锁紧结构(543)通过轨道(544)与顶块(541)内部连接，所述旋杆(542)中段焊接于锁紧结构(543)左侧，所述电源(545)顶面固定安装于顶块(541)底面，所述抛光头(547)嵌入于插壳(546)末段。

3.根据权利要求2所述的一种晶圆蚀刻深孔残留物清理器，其特征在于：所述锁紧结构(543)包括螺纹杆(A1)、轴承(A2)、夹板(A3)、凸块(A4)、槽口(A5)，所述螺纹杆(A1)右端通过轴承(A2)与夹板(A3)左侧活动卡合，所述凸块(A4)与夹板(A3)右侧为一体化成型，所述槽口(A5)与插壳(546)右侧为一体化成型。

4.根据权利要求2所述的一种晶圆蚀刻深孔残留物清理器，其特征在于：所述抛光头(547)包括接电缆(B1)、擦环(B2)、导块(B3)、转动叉(B4)、磁铁(B5)，所述接电缆(B1)末端与导块(B3)顶面电连接，所述导块(B3)底面通过转动叉(B4)与擦环(B2)顶面连接，所述磁铁(B5)固定安装于导块(B3)底面。

5.根据权利要求4所述的一种晶圆蚀刻深孔残留物清理器，其特征在于：所述擦环(B2)包括收集管(B21)、旋转层(B22)、擦块(B23)，所述收集管(B21)外环与旋转层(B22)内环固定连接，所述擦块(B23)内层与旋转层(B22)外环焊接连接。

6.根据权利要求5所述的一种晶圆蚀刻深孔残留物清理器，其特征在于：所述擦块(B23)包括外壳(C1)、摩擦层(C2)、摩擦加强轮(C3)、支撑板(C4)、弹簧(C5)、撑板(C6)，所述摩擦层(C2)两侧嵌入于外壳(C1)内部，所述摩擦加强轮(C3)外环通过支撑板(C4)与外壳(C1)内层连接，所述弹簧(C5)顶面固定安装于撑板(C6)底面，所述撑板(C6)顶面与摩擦加强轮(C3)外环相叠合在一起。

7.根据权利要求6所述的一种晶圆蚀刻深孔残留物清理器，其特征在于：所述摩擦加强轮(C3)包括弹性壳(C31)、触碰块(C32)、凸轮(C33)、连接环(C34)、内轴(C35)，所述弹性壳(C31)内环与触碰块(C32)顶面固定连接，所述内轴(C35)外环通过连接环(C34)与凸轮(C33)内环连接。