[发明专利]一种晶圆蚀刻槽

权利要求书

1.一种晶圆蚀刻槽，其结构包括顶盖(1)、蚀刻槽(2)、控制按钮(3)、机体(4)，所述顶盖(1)与机体(4)的上端铰链连接，所述控制按钮(3)与机体(4)的前端活动卡合，其特征在于：所述蚀刻槽(2)安装于机体(4)的上表面位置；

所述蚀刻槽(2)包括伸缩架(21)、储液腔(22)、板体(23)、透液机构(24)，所述伸缩架(21)与板体(23)活动卡合，所述储液腔(22)与板体(23)为一体化结构，所述透液机构(24)与储液腔(22)嵌固连接。

2.根据权利要求1所述的一种晶圆蚀刻槽，其特征在于：所述伸缩架(21)包括承载块(a1)、上接板(a2)、底板(a3)、弹力片(a4)，所述承载块(a1)与上接板(a2)活动卡合，所述底板(a3)与上接板(a2)的底部嵌固连接，所述弹力片(a4)安装于承载块(a1)与上接板(a2)之间。

3.根据权利要求2所述的一种晶圆蚀刻槽，其特征在于：所述承载块(a1)包括吸附盘(a11)、底置板(a12)、收缩板(a13)、密封块(a14)，所述吸附盘(a11)与收缩板(a13)的上端相连接，所述收缩板(a13)与底置板(a12)间隙配合，所述密封块(a14)与底置板(a12)为一体化结构。

4.根据权利要求3所述的一种晶圆蚀刻槽，其特征在于：所述密封块(a14)包括伸缩块(b1)、板块(b2)、固定板(b3)、弹性环(b4)，所述伸缩块(b1)与固定板(b3)间隙配合，所述板块(b2)与固定板(b3)为一体化结构，所述弹性环(b4)安装于伸缩块(b1)的底部与固定板(b3)之间。

5.根据权利要求1所述的一种晶圆蚀刻槽，其特征在于：所述透液机构(24)包括套框(c1)、外管(c2)、回弹片(c3)、联动板(c4)，所述套框(c1)与外管(c2)为一体化结构，所述回弹片(c3)安装于两个套框(c1)之间，所述联动板(c4)与套框(c1)活动卡合。

6.根据权利要求5所述的一种晶圆蚀刻槽，其特征在于：所述阻挡块(c41)包括阻挡块(c41)、板面(c42)、外摆板(c43)，所述阻挡块(c41)与外摆板(c43)为一体化结构，所述外摆板(c43)与板面(c42)的左侧铰链连接。

7.根据权利要求6所述的一种晶圆蚀刻槽，其特征在于：所述板面(c42)包括承接板(d1)、引液腔(d2)、挤压珠(d3)，所述引液腔(d2)与承接板(d1)为一体化结构，所述挤压珠(d3)安装于引液腔(d2)的内部位置。