[发明专利]一种低光泽度高耐污染性复合釉、使用该复合釉的花岗岩瓷质砖及其制备方法

权利要求书

1.一种低光泽度高耐污染性复合釉，其特征在于，所述复合釉包括：以重量份计，哑光保护釉20～50份、砂岩干粒40～80份和印油80～120份；所述哑光保护釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO₂：36～46%、Al₂O₃：10～14.1%、BaO：21.1～27.2%、碱金属氧化物3.6～6.4%；所述砂岩干粒的化学组成包括：以质量百分比计，SiO₂：43.5～47.6%，Al₂O₃：21.1～23.8%，CaO：16.1～18.2%、碱金属氧化物：3.9～6.7%。

2.根据权利要求1所述的复合釉，其特征在于，所述哑光保护釉的化学组成还包括：以质量百分比计，CaO：0.8～1.6%、MgO：3.0～4.2%、ZnO：2.6～6%、烧失：7.2～9.8%。

3.根据权利要求1所述的复合釉，其特征在于，所述砂岩干粒的化学组成还包括：以质量百分比计，MgO：0.6～1.3%、ZnO：6.3～8.3%、BaO：2～3%。

4.根据权利要求1所述的复合釉，其特征在于，所述哑光保护釉的比重为1.7～1.95 g/cm³，烧成后的光泽度在5°以内。

5.根据权利要求1所述的复合釉，其特征在于，所述砂岩干粒的颗粒级配包括：以质量百分比计，120～150目：15～35%，150～250目：30～60%，250目以下：20～40%。

6.根据权利要求1所述的复合釉，其特征在于，所述哑光保护釉和砂岩干粒的质量比为1：（1～4）。

7.花岗岩瓷质砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：在坯体表面依次施面釉、喷墨打印图案、施权利要求1至6中任一项所述的低光泽度高耐污染性复合釉、烧成，即得花岗岩瓷质砖。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述低光泽度高耐污染性复合釉的施加方式为喷釉，比重为1.2～1.5g/cm³，施加量为200～400 g/m²。

9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，最高烧成温度为1150～1190℃，烧成时间为50～80min。

10.根据权利要求7至9中任一项所述的制备方法获得的花岗岩瓷砖，其特征在于，所述花岗岩瓷砖具有砂岩质感，光泽度在4°以内，耐污染性等级5级。