[发明专利]曝光装置、平面显示器的制造方法、元件制造方法、及曝光方法有效
| 申请号: | 202010960580.4 | 申请日: | 2016-03-31 |
| 公开(公告)号: | CN112162465B | 公开(公告)日: | 2023-06-20 |
| 发明(设计)人: | 内藤一夫;青木保夫;长岛雅幸 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
| 地址: | 日本东京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 曝光 装置 平面 显示器 制造 方法 元件 | ||
本发明是曝光装置、平面显示器的制造方法、元件制造方法、及曝光方法。透过投影光学系(40)对基板(P)照射照明光(IL),并借由相对基板(P)驱动投影光学系(40)进行扫描曝光的液晶曝光装置(10),具备检测设于基板(P)的标记(Mk)的对准系(60)、驱动对准系(60)的第1驱动系、驱动投影光学系(40)的第2驱动系、以及以投影光学系(40)与对准系(60)彼此不接触的方式控制第1及第2驱动系的控制装置。如此,能避免投影光学系(40)与对准系(60)的接触。
本申请是母案PCT国际申请号为PCT/JP2016/060593的发明名称为“曝光装置、平面显示器的制造方法、元件制造方法、及曝光方法”的专利申请案进入中国国家阶段的申请案(申请号为201680020548.X,发明名称为曝光装置、平面显示器的制造方法、元件制造方法、及曝光方法)的分案申请,原母案PCT申请案的国际申请日是2016年03月31日。
技术领域
本发明是关于曝光装置、平面显示器的制造方法、元件制造方法及曝光方法,详言之,是关于借由对物体进行将能量束扫描于既定扫描方向的扫描曝光,将既定图案形成在物体上的曝光装置及方法、以及包含前述曝光装置或方法的平面显示器或元件的制造方法。
背景技术
一直以来,在制造液晶显示元件、半导体元件(集成电路等)等电子元件(微元件)的微影制造过程,是使用曝光装置,此曝光装置使用能量束将形成在光罩或标线片(以下,统称为「光罩」)的图案转印至玻璃板或晶圆(以下,统称为「基板」)上。
作为此种曝光装置,已知有一种在使光罩与基板实质静止的状态下,将曝光用照明光(能量束)扫描于既定扫描方向,据以在基板上形成既定图案的线束扫描式的扫描曝光装置(例如参照专利文献1)。
在述专利文献1记载的曝光装置,为修正基板上的曝光对象区域与光罩的位置误差,是一边使投影光学系往与曝光时的扫描方向相反方向移动、一边通过投影光学系以对准显微镜进行基板上及光罩上的标记的测量(对准测量),根据该测量结果修正基板与光罩的位置误差。此处,由于是通过投影光学系测量基板上的对准标记,因此对准动作与曝光动作是依序(serially)实施,欲抑制所有基板的曝光处理所需的处理时间(周期时间)是非常困难的。
先行技术文献
[专利文献1]日本特开2000-12422号公报
发明内容
用以解决课题的手段
本发明在上述事情下完成,其第1观点的第1曝光装置系透过投影光学系对物体照射照明光,相对该物体驱动该投影光学系以进行扫描曝光,其具备:用以检测设在该物体的标记的标记检测部、驱动该标记检测部的第1驱动系、驱动该投影光学系的第2驱动系、以及控制该第1及第2驱动系以避免该投影光学系与该标记检测部彼此接触的控制装置。
本发明第2观点的第2曝光装置,是透过投影光学系对物体照射照明光,相对该物体驱动该投影光学系以进行扫描曝光,其具备:用以检测设于该物体的标记的标记检测部、驱动该标记检测部的第1驱动系、驱动该投影光学系的第2驱动系、以及于该扫描曝光中驱动该投影光学系与该标记检测部中至少一方时控制该第1及第2驱动系中至少一方的驱动系以使该投影光学系与该标记检测部的间隔相距既定距离以上的控制装置。
本发明第3观点的第3曝光装置,是透过投影光学系对物体照射照明光,相对该物体驱动该投影光学系以进行扫描曝光动作,其具备:用以检测设于该物体的标记的标记检测部、驱动该标记检测部的第1驱动系、驱动该投影光学系的第2驱动系、以及于该扫描曝光动作中的至少部分动作中控制该第1及第2驱动系分别以相异的驱动速度驱动该投影光学系及该标记检测部的控制装置。
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