[发明专利]显示面板及其制备方法

说明书

本申请公开了一种显示面板及其制备方法，所述制备方法包括：提供第一基板，在所述第一基板上形成阵列功能层；提供第二基板，在所述第二基板上形成量子点彩膜层；提供第三基板，在所述第三基板上形成偏光层；将所述偏光层从所述第三基板上剥离，并粘贴于所述量子点彩膜层上；以及将所述第一基板与所述第二基板进行组立，并在所述第一基板与所述第二基板之间形成液晶层。相较直接在量子点彩膜上形成偏光层，由于基板比量子点彩膜的平面具有更为平坦的表面，有利于获得更为均一的偏光层结构。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法。

背景技术

量子点由于激发波长宽，半宽峰窄，发光效率高，颜色可调节，近年来被广泛应用在显示领域。并且将其应用在LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示器)中的彩膜中，既能较大程度的继续沿用LCD制造工艺，同时又能提高颜色表现，在色纯度与色域上均有优异的表现，使得近年来逐渐引起面板行业的广泛关注。

然而由于量子点是自发光材料，由其发出的光即使在显示面板盒外贴加偏光片也无法实现光的通断。采用纳米压印技术在量子点显示面板盒内制作内置偏光片可以实现光路通断。然而在实际操作中量子点彩膜很难做到绝对平坦，当将纳米级别的光栅结构压印到量子点彩膜之上时，其压印形貌会受到基底平坦度的影响，纳米压印的残胶量变得难以控制，蚀刻时就会导致不同位置的刻蚀结果存在差异，从而导致所制备的内置偏光片的均一性差，影响显示效果。

发明内容

为解决上述问题，第一方面，本发明提供一种显示面板的制备方法，包括如下步骤：

S10:提供第一基板，在所述第一基板上形成阵列功能层；

S20:提供第二基板，在所述第二基板上形成量子点彩膜层；

S30:提供第三基板，在所述第三基板上形成偏光层；

S40:将所述偏光层从所述第三基板上剥离，并粘贴于所述量子点彩膜层上；以及

S50:将所述第一基板与所述第二基板进行组立，并在所述第一基板与所述第二基板之间形成液晶层。

进一步地，所述S30包括如下步骤：

S301:提供第三基板，在所述第三基板上形成牺牲层；

S302:在所述牺牲层上形成偏光层；以及

S303:在所述偏光层上形成粘结层。

进一步地，所述S40包括：将所述偏光层与所述牺牲层剥离，并藉由所述粘结层将所述偏光层黏附于所述量子点彩膜层上。

进一步地，所述S302包括：

在所述牺牲层上依次形成第一无机层，金属层以及第二无机层；

在所述第二无机层上形成光阻层；

使用纳米压印模板压印所述光阻层，以形成光阻图案层；

在所述光阻图案层的遮蔽下，对所述第一无机层，金属层以及第二无机层一并进行蚀刻，以形成所述偏光层；以及

剥离去除所述光阻图案层。

进一步地，所述光阻图案层包括多条间隔等距排布的条形光阻，使得形成的偏光层包括多条间隔等距排布的线栅结构。

进一步地，所述粘结层的材料为具有粘结功能的透明聚合物材料。

进一步地，所述偏光层与所述牺牲层通过激光剥离工艺实现剥离。

进一步地，在量子点彩膜层上还形成有包覆于所述量子点彩膜层的封装层，以致所述偏光层粘贴于所述封装层上。