[发明专利]显示面板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010958419.3 申请日: 2020-09-14
公开(公告)号: CN112014993A 公开(公告)日: 2020-12-01
发明(设计)人: 杨超群;黄长治 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;G02F1/1335;G03F7/00;G02F1/13357
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 汪阮磊
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 显示 面板 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

S10:提供第一基板,在所述第一基板上形成阵列功能层;

S20:提供第二基板,在所述第二基板上形成量子点彩膜层;

S30:提供第三基板,在所述第三基板上形成偏光层;

S40:将所述偏光层从所述第三基板上剥离,并粘贴于所述量子点彩膜层上;以及

S50:将所述第一基板与所述第二基板进行组立,并在所述第一基板与所述第二基板之间形成液晶层。

2.如权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述S30包括如下步骤:

S301:提供第三基板,在所述第三基板上形成牺牲层;

S302:在所述牺牲层上形成偏光层;以及

S303:在所述偏光层上形成粘结层。

3.如权利要求2所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述S40包括:将所述偏光层与所述牺牲层剥离,并藉由所述粘结层将所述偏光层黏附于所述量子点彩膜层上。

4.如权利要求2所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述S302包括:

在所述牺牲层上依次形成第一无机层,金属层以及第二无机层;

在所述第二无机层上形成光阻层;

使用纳米压印模板压印所述光阻层,以形成光阻图案层;

在所述光阻图案层的遮蔽下,对所述第一无机层,金属层以及第二无机层一并进行蚀刻,以形成所述偏光层;以及

剥离去除所述光阻图案层。

5.如权利要求4所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述光阻图案层包括多条间隔等距排布的条形光阻,使得形成的偏光层包括多条间隔等距排布的线栅结构。

6.如权利要求2所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述粘结层的材料为具有粘结功能的透明聚合物材料。

7.如权利要求3所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述偏光层与所述牺牲层通过激光剥离工艺实现剥离。

8.如权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在量子点彩膜层上还形成有包覆于所述量子点彩膜层的封装层,以致所述偏光层粘贴于所述封装层上。

9.如权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述第一基板背离所述液晶层的一侧还形成有蓝色背光,同时,所述量子点彩膜层包括形成于非像素区的黑色矩阵,形成于红色子像素区域的红色量子点色阻以及形成于绿色子像素区域的绿色量子点色阻。

10.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板由权利要求1-9任意一项所述的显示面板的制备方法制备而得。

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