[发明专利]一种镀层高耐磨的镀铬工艺在审
申请号: | 202010918077.2 | 申请日: | 2020-09-03 |
公开(公告)号: | CN112030148A | 公开(公告)日: | 2020-12-04 |
发明(设计)人: | 王小锋 | 申请(专利权)人: | 深圳市生利科技有限公司 |
主分类号: | C23C18/36 | 分类号: | C23C18/36;C23C18/30;C25D3/38;C25D3/06;C25D5/12;C23C14/35;C23C14/16;C23C28/02 |
代理公司: | 上海微策知识产权代理事务所(普通合伙) 31333 | 代理人: | 李萍 |
地址: | 518000 广东省深圳市坪山区龙田街道办*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 镀层 耐磨 镀铬 工艺 | ||
1.一种镀层高耐磨的镀铬工艺,其特征在于,包括以下步骤:粗化、中和、调校、钯活化、还原、化学镀镍、镀铜、镀镍合金、镀铬、烘干、真空PVD电镀。
2.根据权利要求1所述的一种镀层高耐磨的镀铬工艺,其特征在于,所述还原过程的所用试剂为还原剂,包括以下组分:37%盐酸、亚磷酸钠以及三乙基甲基氯化铵。
3.根据权利要求2所述的一种镀层高耐磨的镀铬工艺,其特征在于,所述37%盐酸、亚磷酸钠以及三乙基甲基氯化铵的重量比为1:(0.35~0.45):(0.25~0.45)。
4.根据权利要求1所述的一种镀层高耐磨的镀铬工艺,其特征在于,所述化学镀镍过程的所用试剂为化学镀镍液,包括以下浓度的组分:3~8g/L硫酸镍、15~25g/L次磷酸钠、6~10g/L丁二酸、0.01~0.03g/L氢氟酸。
5.根据权利要求1所述的一种镀层高耐磨的镀铬工艺,其特征在于,所述镀铜过程的所用试剂为铜电镀液,包括以下浓度的组分:150~220g/L硫酸铜、60~80g/L硫酸。
6.根据权利要求1所述的一种镀层高耐磨的镀铬工艺,其特征在于,所述镀铬过程的所用试剂为铬电镀液,包括以下浓度的组分:45~65g/L三价铬、40~70g/L盐酸。
7.根据权利要求2所述的一种镀层高耐磨的镀铬工艺,其特征在于,所述还原过程为:将钯活化后的PA塑料材料浸入10~32ml/L还原液中,还原温度为25~46℃,处理后用去离子水清洗干净。
8.根据权利要求1或4所述的一种镀层高耐磨的镀铬工艺,其特征在于,所述化学镀镍过程为:将还原后的PA塑料材料浸入化学镀镍液中,化学镀镍温度为30~40℃,化学镀镍时间为5~10min,化学镀镍液pH为8~9。
9.根据权利要求5所述的一种镀层高耐磨的镀铬工艺,其特征在于,所述镀铜过程为:将化学镀镍后的PA塑料材料浸入铜电镀液中,镀铜温度为25~35℃,镀铜时间为5~15min,镀铜电压为2~4V,镀铜电流为80~120A。
10.根据权利要求1所述的一种镀层高耐磨的镀铬工艺,其特征在于,所述真空PVD电镀过程为:将烘干后的PA塑料材料放入磁控溅射机内的镀膜腔体中,抽真空,PVD电镀铬膜厚度为0.04~0.06μm,铬靶溅射功率为12kW,铬靶电流为24~23A,溅射速率为67~69nm/min。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
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