[发明专利]荧光图像分析装置在审
申请号: | 202010902890.0 | 申请日: | 2020-09-01 |
公开(公告)号: | CN112444508A | 公开(公告)日: | 2021-03-05 |
发明(设计)人: | 城川政宜;住吉研 | 申请(专利权)人: | 天马日本株式会社 |
主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华;何月华 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 荧光 图像 分析 装置 | ||
1.一种荧光图像分析装置,包括:
一个或多个处理器;以及
一个或多个存储装置,
其中,所述一个或多个存储装置存储基准荧光样品图像和对象荧光样品图像,
其中,所述基准荧光样品图像是通过用线性偏振光照射面内荧光强度的关系已知的基准荧光样品并捕获来自所述基准荧光样品的荧光的第一预定偏振分量而获得的图像,
其中,所述对象荧光样品图像是通过用线性偏振光照射对象荧光样品并捕获来自所述对象荧光样品的荧光的第二预定偏振分量而获得的图像,以及
其中,所述一个或多个处理器被配置为:
基于所述基准荧光样品图像来确定用于校正在捕获的图像的像素之间测量的光强度中的不均匀性的校正系数;以及
基于所述校正系数校正所述对象荧光样品图像的像素的光强度。
2.根据权利要求1所述的荧光图像分析装置,其中,来自所述基准荧光样品的荧光的面内强度是均匀的。
3.根据权利要求1所述的荧光图像分析装置,其中,所述第一预定偏振分量和所述第二预定偏振分量是相同的偏振分量。
4.根据权利要求1所述的荧光图像分析装置,
其中,所述一个或多个存储装置存储通过捕获包括所述第一预定偏振分量的多个偏振分量而获得的基准荧光样品图像以及通过捕获所述多个偏振分量而获得的对象荧光样品图像,以及
其中,所述一个或多个处理器被配置为基于通过捕获所述多个偏振分量而获得的基准荧光样品图像,使用所述校正系数来对通过捕获对应的相同的偏振分量而获得的所述对象荧光样品图像中的每一个对象荧光样品图像进行校正。
5.根据权利要求1所述的荧光图像分析装置,其中,所述一个或多个处理器被配置为基于预定的偏移值来校正所述对象荧光样品图像的像素的光强度。
6.根据权利要求1所述的荧光图像分析装置,其中,所述一个或多个处理器被配置为:
确定所述对象荧光样品图像中的除所述对象荧光样品的区域以外的区域中的背景光强度;以及
基于所述背景光强度校正所述对象荧光样品图像的像素的光强度。
7.根据权利要求1所述的荧光图像分析装置,其中,所述一个或多个处理器被配置为基于预定的拟合函数来确定所述基准荧光样品图像中的像素的光强度。
8.根据权利要求1所述的荧光图像分析装置,其中,所述一个或多个处理器被配置为:
基于图像传感器噪声的预定阈值,从所述基准荧光样品图像的像素和所述对象荧光样品图像的像素中检测图像传感器的固定模式噪声;
在确定所述校正系数时,从所述基准荧光样品图像中排除具有噪声的像素;以及
在确定所述对象荧光样品图像的像素的光强度时,从所述对象荧光样品图像中排除具有噪声的像素。
9.一种荧光偏振测量系统,包括:
根据权利要求4所述的荧光图像分析装置;以及
偏振相机,所述偏振相机包括图像传感器和偏振滤光器,所述图像传感器和所述偏振滤光器中的每一者被配置为使所述多个偏振分量中的一个偏振分量透射,
其中,所述荧光图像分析装置被配置为控制所述偏振相机通过捕获所述多个偏振分量来获取基准荧光样品图像,并通过捕获所述多个偏振分量来获取对象荧光样品图像,以及
其中,通过捕获所述多个偏振分量来获取所述基准荧光样品图像和所述对象荧光样品图像的测量时间段具有相同的长度。
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