[发明专利]一种微弱交变磁场探测器在审

专利信息
申请号: 202010895741.6 申请日: 2020-08-31
公开(公告)号: CN111983528A 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 中山科立特光电科技有限公司
主分类号: G01R33/032 分类号: G01R33/032
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 528458 广东省中山市中山火炬开发区中心城区港*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 微弱 磁场 探测器
【说明书】:

发明提供了一种微弱交变磁场探测器,包括:槽体、磁流体、四氧化三铁颗粒,磁流体置于槽体内,磁流体内设有四氧化三铁颗粒;应用时,线偏振光倾斜照射磁流体,在垂直于入射面方向施加外磁场,在待测交变磁场作用下,四氧化三铁颗粒产生热,从而改变磁流体的磁导率,从而改变反射光的强度,通过探测反射光的强度实现交变磁场探测。因为磁流体的磁导率显著地依赖于磁流体的温度,所以在待测交变磁场的作用下,四氧化三铁颗粒产生的热能够显著地改变反射光的强度,因此本发明具有灵敏度高的优点,在微弱交变磁场探测领域具有良好的应用前景。

技术领域

本发明涉及交变磁场探测领域,具体涉及一种微弱交变磁场探测器。

背景技术

随着电子产品的普及,电磁辐射对人体健康的危害日益得到关注,电磁辐射的测量和评估成为研究的热点。现有技术中,不能针对微弱交变磁场进行高灵敏度测量。

发明内容

为解决以上问题,本发明提供了一种微弱交变磁场探测器,包括:槽体、磁流体、四氧化三铁颗粒,磁流体置于槽体内,磁流体内设有四氧化三铁颗粒;应用时,线偏振光倾斜照射磁流体,在垂直于入射面方向施加外磁场,在待测交变磁场作用下,四氧化三铁颗粒产生热,从而改变磁流体的磁导率,从而改变反射光的强度,通过探测反射光的强度实现交变磁场探测。

更进一步地,还包括贵金属部,贵金属部固定在槽体的底部。

更进一步地,贵金属部为圆柱。

更进一步地,圆柱的直径大于40纳米、小于100纳米。

更进一步地,贵金属部的材料为金。

更进一步地,贵金属部周期排布。

更进一步地,还包括反射膜,反射膜置于槽体的底部,贵金属部置于反射膜上。

更进一步地,反射膜的材料为金。

更进一步地,反射膜的厚度大于100纳米。

更进一步地,四氧化三铁颗粒的直径大于100纳米、小于1微米。

本发明的有益效果:本发明提供了一种微弱交变磁场探测器,包括:槽体、磁流体、四氧化三铁颗粒,磁流体置于槽体内,磁流体内设有四氧化三铁颗粒;应用时,线偏振光倾斜照射磁流体,在垂直于入射面方向施加外磁场,在待测交变磁场作用下,四氧化三铁颗粒产生热,从而改变磁流体的磁导率,从而改变反射光的强度,通过探测反射光的强度实现交变磁场探测。因为磁流体的磁导率显著地依赖于磁流体的温度,所以在待测交变磁场的作用下,四氧化三铁颗粒产生的热能够显著地改变反射光的强度,因此本发明具有灵敏度高的优点,在微弱交变磁场探测领域具有良好的应用前景。

以下将结合附图对本发明做进一步详细说明。

附图说明

图1是一种微弱交变磁场探测器的示意图。

图2是又一种微弱交变磁场探测器的示意图。

图中:1、槽体;2、磁流体;3、四氧化三铁颗粒;4、贵金属部。

具体实施方式

为进一步阐述本发明达成预定目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及实施例对本发明的具体实施方式、结构特征及其功效,详细说明如下。

实施例1

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