[发明专利]掩模制造方法

说明书

根据本发明的一实施例，掩模制造方法包括：将掩模片配置在彼此隔开的第一辊及第二辊上的步骤，所述掩模片包括限定有第一区域及第二区域的图案区域；通过使所述第一辊及所述第二辊旋转以将所述图案区域配置在曝光模块上的步骤；通过所述曝光模块对所述第一区域执行第一曝光工序以在所述第一区域上形成第一图案的步骤；以及通过所述曝光模块对所述第二区域执行第二曝光工序以在所述第二区域上形成第二图案的步骤。

技术领域

本发明涉及一种掩模制造方法。

背景技术

显示面板包括多个像素。多个像素中的每一个包括如晶体管的驱动元件和如发光二极管的显示元件。可通过在基板上层叠电极和发光图案来形成显示元件。

发光图案利用限定有孔的掩模来被图案化，从而形成在规定区域上。发光图案可形成在由开口部暴露的区域中。可根据开口部的形状来控制发光图案的形状。

发明内容

本发明的目的是提供一种能够提高显示装置的生产率的掩模制造方法。

根据本发明的一实施例，掩模制造方法包括：将掩模片配置在彼此隔开的第一辊及第二辊上的步骤，所述掩模片包括限定有第一区域及第二区域的图案区域；通过使所述第一辊及所述第二辊旋转以将所述图案区域配置在曝光模块上的步骤；通过所述曝光模块对所述第一区域执行第一曝光工序以在所述第一区域上形成第一图案的步骤；以及通过所述曝光模块对所述第二区域执行第二曝光工序以在所述第二区域上形成第二图案的步骤。

根据本发明的实施例，通过对图案区域的第一区域执行第一曝光工序，接着对同一图案区域的第二区域执行第二曝光工序，能够对一个掩模确保更多数量的单元区域，从而能够提高显示装置的生产率。

根据本发明的一实施例，通过在待形成图案的第一区域与第二区域之间配置第三区域，最大限度地减小在第一区域及第二区域中的任一区域中发生的不良对其他区域带来的影响，从而能够减小显示装置的不良率。

附图说明

图1是示意性地图示本发明的一实施例的掩模组件的图。

图2是图1所示的掩模的立体图。

图3及图4是图示本发明的一实施例的掩模的图。

图5是示意性地表示利用本发明的一实施例的掩模来制造显示装置的过程的图。

图6是表示制造本发明的一实施例的掩模的方法的顺序图。

图7是示意性地图示在制造本发明的一实施例的掩模的工序中执行曝光工序的系统的总体状况的图。

图8是示意性地图示图7所示掩模片的形状的图。

图9是示意性地图示第一区域通过图7所示的第一辊及第二辊配置在曝光模块上的状况的图。

图10至图12是示意性地图示通过图9所示曝光模块对掩模片执行曝光工序的过程的图。

图13是示意性地图示第二区域通过图7所示的第一辊及第二辊配置在曝光模块上的状况的图。

图14是示意性地图示结束第一曝光工序及第二曝光工序以后的掩模片的形状的图。

图15至图17是用于说明本发明的一实施例的掩模制造方法的图。

具体实施方式

在说明书中，当提到某结构要素(或者区域、层或部分等)“位于”、“连接到”或“结合到”其他结构要素“之上”时，这表示可直接配置/连接/结合到其他结构要素之上或者在它们之间也可以配置有第三结构要素。

相同的附图标记指相同的结构要素。此外，在附图中，为了有效地说明技术内容，夸大了结构要素的厚度、比率及尺寸。

“和/或”包含相关联的结构所能够定义的一个以上的所有组合。