[发明专利]掩模制造方法

权利要求书

1.一种掩模制造方法，包括：

将掩模片配置在彼此隔开的第一辊及第二辊上的步骤，其中所述掩模片包括限定有第一区域及第二区域的图案区域；

通过使所述第一辊及所述第二辊旋转以将所述图案区域配置在曝光模块上的步骤；

通过所述曝光模块对所述第一区域执行第一曝光工序以在所述第一区域上形成第一图案的步骤；以及

通过所述曝光模块对所述第二区域执行第二曝光工序以在所述第二区域上形成第二图案的步骤。

2.根据权利要求1所述的掩模制造方法，其中，

所述图案区域进一步包括第三区域，所述第三区域配置在所述第一区域与所述第二区域之间且不被执行曝光工序。

3.根据权利要求1所述的掩模制造方法，其中，

所述曝光模块包括第一曝光器，

形成所述第一图案的步骤包括：

通过使所述第一辊及所述第二辊旋转以将所述第一区域配置在所述第一曝光器上的步骤；以及

通过所述第一曝光器形成所述第一图案的步骤。

4.根据权利要求3所述的掩模制造方法，其中，

形成所述第二图案的步骤包括：

通过使所述第一辊及所述第二辊旋转以将所述第二区域配置在所述第一曝光器上的步骤；以及

通过所述第一曝光器形成所述第二图案的步骤。

5.根据权利要求1所述的掩模制造方法，其中，

所述曝光模块包括第一子曝光器及第二子曝光器，

形成所述第一图案的步骤包括：

通过所述第一子曝光器在所述第一区域的上表面上形成所述第一图案的步骤；以及

通过所述第二子曝光器在所述第一区域的与所述上表面相反的下表面上形成所述第一图案的步骤。

6.根据权利要求5所述的掩模制造方法，其中，

形成所述第二图案的步骤包括：

通过所述第一子曝光器在所述第二区域的上表面上形成所述第二图案的步骤；以及

通过所述第二子曝光器在所述第二区域的与所述上表面相反的下表面上形成所述第二图案的步骤。

7.根据权利要求1所述的掩模制造方法，其中，

形成所述第一图案的步骤包括：

将限定有与所述第一图案对应的多个孔的曝光掩模配置在所述第一区域上的步骤；以及

将所述第一区域的通过所述孔露出的部分暴露在光中的步骤。

8.根据权利要求1所述的掩模制造方法，其中，

所述第一辊配置在比所述第二辊及所述曝光模块更靠上方处。

9.根据权利要求1所述的掩模制造方法，其中，

所述掩模片包括：

金属层；

配置在所述金属层的一面上的第一光致抗蚀剂；以及

配置在所述金属层的相反面上的第二光致抗蚀剂，所述相反面为与所述金属层的所述一面相反的面。

10.根据权利要求1所述的掩模制造方法，其中，

所述曝光模块包括：

第一曝光器；以及

与所述第一曝光器相隔的第二曝光器。