[发明专利]一种提高对比度的透明面板结构及其制作方法在审
申请号: | 202010882817.1 | 申请日: | 2020-08-28 |
公开(公告)号: | CN112071879A | 公开(公告)日: | 2020-12-11 |
发明(设计)人: | 陈宇怀 | 申请(专利权)人: | 福建华佳彩有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32 |
代理公司: | 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) 35219 | 代理人: | 林祥翔;徐剑兵 |
地址: | 351100 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 提高 对比度 透明 面板 结构 及其 制作方法 | ||
1.一种提高对比度的透明面板结构的制作方法,其特征在于,包括制作电致变色层步骤和制作透明显示结构步骤;
制作所述电致变色层步骤在制作所述透明显示结构步骤前面;或者制作所述电致变色层步骤在制作所述透明显示结构步骤后面;
所述透明显示结构和所述电致变色层设置在基板上,所述透明显示结构包括有空白区域和画素,所述电致变色层与空白区域错开设置,且所述电致变色层在竖直方向上与发光层具有重叠区域,所述竖直方向垂直于基板方向;
当制作所述电致变色层步骤在制作所述透明显示结构步骤前面时,制作所述方法包括:
于基板上制作第一电致变色层,并于所述第一电致变色层上制作缓冲层;
于所述缓冲层上制作以所述第一电致变色层为底的第一通孔,
在缓冲层上完成制作所述透明显示结构步骤,透明显示结构中的一栅极层通过第一通孔与第一电致变色层连接;
当制作所述电致变色层步骤在制作所述透明显示结构步骤后面时,所述制作方法包括:
在基板上完成制作所述透明显示结构步骤,在透明显示结构中发光层上的非空白区域制作第二电致变色层。
2.根据权利要求1所述一种提高对比度的透明面板结构的制作方法,其特征在于,制作所述透明显示结构步骤包括:
制作第一栅极层和第二栅极层,且所述第二栅极层通过所述第一通孔与所述第一电致变色层连接;
制作栅极绝缘层,并蚀刻所述栅极绝缘层,形成以所述第二栅极层为底的第二通孔;
制作第一有源层和第二有源层,所述第一有源层置于所述第一栅极上方的所述栅极绝缘层上,所述第二有源层置于所述第二栅极上方的所述栅极绝缘层上;
制作第一源极、第一漏极、第二源极和第二漏极;所述第一源极和第一漏极分别置于所述第一有源层两侧,且所述第一源极或第一漏极通过所述第二通孔与所述第二栅极连接;所述第二源极和第二漏极分别置于所述第二有源层的两侧;
制作钝化层,并蚀刻钝化层形成以第二源极或者第二漏极为底的第三通孔;蚀刻所述钝化层和栅极绝缘层形成以缓冲层为底的第四通孔,第四通孔为所述空白区域;
制作平坦层,并蚀刻第三通孔和第四通孔位置处的平坦层;
制作透明阳极,所述阳极通过所述第三通孔与所述第三通孔的孔底连接;
制作画素定义层,并于所述画素定义层上制作以所阳极为底的第五通孔;并去除所述第四通孔所在位置上的画素定义层;
蒸镀发光层于所述第五通孔内;
制作透明阴极,并去除位于所述第四通孔所在位置上的所述阴极。
3.根据权利要求1所述一种提高对比度的透明面板结构的制作方法,其特征在于,所述于基板上制作第一电致变色层包括步骤:
依次制作层叠在所述基板上的第一透明电极层、第一电解质层、第一变色层、第一离子存储层和第二透明电极层。
4.根据权利要求1所述一种提高对比度的透明面板结构的制作方法,其特征在于,当制作所述电致变色层步骤在制作所述透明显示结构步骤前面时,在所述制作透明显示结构后还包括步骤:
在所述透明显示结构上制作第二电致变色层;
去除位于所述空白区域所在位置上全部的所述第二电致变色层;
在所述第二电致变色层上对应所述发光层的位置设置有透光孔。
5.根据权利要求1所述一种提高对比度的透明面板结构的制作方法,其特征在于,所述第一电致变色层与第二电致变色层在所述竖直方向上分别与发光层的不同部分重叠。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的