[发明专利]一种半导体清洗设备中的喷淋装置和半导体清洗设备

说明书

本发明提供一种半导体清洗设备中的喷淋装置，包括旋转轴、基座组件和喷淋管组件，旋转轴设置在基座组件中，且能够绕自身轴线旋转，旋转轴中开设有导流管路；基座组件固定设置在半导体清洗设备工艺腔室的顶部，用于容置旋转轴，还用于将清洗剂导入导流管路；喷淋管组件与旋转轴连接，且与导流管路连通；喷淋管组件包括至少一根驱动喷淋管，用于在喷淋清洗剂时，基于产生的反作用力，驱动喷淋管组件和旋转轴旋转。在本发明中，仅需向驱动喷淋管注入清洗剂，即可通过喷头的反向作用力驱动旋转轴自动旋转，对工艺腔室进行旋转喷淋清洗，结构简单、安全性高，且能够节省在喷淋装置中设置动密封件的维护成本。本发明还提供一种半导体清洗设备。

技术领域

本发明涉及半导体设备领域，具体地，涉及一种半导体清洗设备中的喷淋装置和一种半导体清洗设备。

背景技术

随着集成电路(IC)集成度的提高，半导体器件对半导体工艺设备也提出了更高的要求。石英管和石英舟是扩散炉以及氧化基片(wafer)所用的立式炉中的常用部件，在半导体工艺过程中，石英管和石英舟与基片直接接触，因此石英管和石英舟表面的颗粒度将直接影响基片在氧化和扩散工艺中的加工效果。

为提高石英管和石英舟表面的洁净度，常使用清洗机对石英管、石英舟进行清洁。目前，用于清洗石英管和石英舟的清洗设备主要分为立式石英舟清洗机和卧式石英管舟清洗机。其中，卧式石英管舟清洗机利用工艺槽中的药液对石英管和石英舟进行浸泡清洗，并采用过滤器对药液进行循环过滤，在工艺槽中的药液达到生命周期后更换药液，但在每次浸泡清洗工艺完成后，无法对清洗机的工艺槽进行清洗，工艺槽中可能会滋生一些颗粒，影响后续的清洗工艺。而立式石英管舟清洗机是将石英管和石英舟进行喷淋清洗，清洗完的药液用过滤器过滤后回收储存，且在清洗工艺结束后，还可以对清洗机的工艺腔室进行喷淋清洗并烘干，从而避免颗粒的滋生。

目前，立式石英舟清洗机中的喷淋装置一般采用电机驱动进行旋转，而为了满足工艺腔室的密封要求，喷淋装置整体结构较为复杂，成本较高，且容易损坏。

发明内容

本发明旨在提供一种半导体清洗设备中的喷淋装置和一种半导体清洗设备，该喷淋装置结构简单且安全性高。

为实现上述目的，作为本发明的一个方面，提供一种半导体清洗设备中的喷淋装置，包括旋转轴、基座组件和喷淋管组件，其中，

所述旋转轴设置在所述基座组件中，且所述旋转轴能够绕自身轴线相对于所述基座组件旋转，所述旋转轴中开设有导流管路；

所述基座组件固定设置在所述半导体清洗设备工艺腔室的顶部，用于容置所述旋转轴，还用于将清洗剂导入所述导流管路；

所述喷淋管组件与所述旋转轴连接，且与所述导流管路连通；所述喷淋管组件包括至少一根驱动喷淋管，用于在喷淋所述清洗剂时，基于产生的反作用力，驱动所述喷淋管组件和所述旋转轴旋转。

优选地，所述喷淋管组件还包括转接头，所述转接头与所述旋转轴连接，所述驱动喷淋管与所述转接头连接，所述驱动喷淋管通过所述转接头与所述导流管路连通。

优选地，所述驱动喷淋管包括直管、弯折管、喷头，所述直管与所述转接头连接，所述弯折管与所述直管连接，所述喷头与所述弯折管连接；

所述弯折管的两端的朝向之间存在夹角，使所述喷头的喷淋方向与所述直管的延伸方向之间也存在所述夹角。

优选地，所述驱动喷淋管还包括广角喷头，所述广角喷头设置在所述直管上，所述广角喷头的喷淋方向与所述驱动喷头的喷淋方向均朝向所述驱动喷淋管的同一侧。

优选地，所述喷淋管组件包括至少一对所述驱动喷淋管，每对所述驱动喷淋管对称地设置。

优选地，所述喷淋管组件还包括至少一对平衡喷淋管，所述平衡喷淋管与所述转接头连接，且对称地设置；