[发明专利]法拉第屏罩、半导体处理设备及刻蚀设备在审
| 申请号： | 202010869992.7 | 申请日： | 2020-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN112447482A | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | 陈建翔;陈青宏;陈衍吉;黄正义;杨志深 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人： | 顾伯兴 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 法拉第 半导体 处理 设备 刻蚀 | ||
【权利要求书】：
1.一种法拉第屏罩，包括：
多个导电片，分开排列在彼此旁边并沿着所述法拉第屏罩的圆周取向，并且线圈缠绕在所述法拉第屏罩的所述圆周周围；以及
间隔件，插设在所述多个导电片中的相邻两者之间，以将所述多个导电片中的所述相邻两者彼此电隔离。
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