[发明专利]一种地层俘获截面曲线校正方法、装置及设备在审

专利信息
申请号: 202010848170.0 申请日: 2020-08-21
公开(公告)号: CN112036016A 公开(公告)日: 2020-12-04
发明(设计)人: 党利霞;邓瑞 申请(专利权)人: 长江大学
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20;G06F30/25;E21B47/00;E21B49/00;G06F111/08
代理公司: 武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙) 42231 代理人: 易贤卫
地址: 434023*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 地层 俘获 截面 曲线 校正 方法 装置 设备
【说明书】:

发明公开了一种地层俘获截面曲线校正方法、装置及设备,方法包括:建立地层俘获截面的蒙特卡罗计算模型,根据蒙特卡罗计算模型分析出地层俘获截面获取的影响因素;获取实际井资料以及已有裸井资料中的标志层的俘获截面曲线,根据所述标志层的俘获截面曲线选出实际井中的异常井段,并对异常井段中的影响因素进行校正,其中,所述标志层包括纯泥岩层和纯水层;根据校正后的异常井段数据得到校正后的地层俘获截面曲线。本发明在蒙特卡罗方法的基础上,采用标志层法对影响因素进行校正,得到了PNN测井的适用条件,在一定程度上能够指导生产实际。

技术领域

本发明涉及PNN测井技术领域,特别涉及一种地层俘获截面曲线校正方法、装置、设备及存储介质。

背景技术

PNN测井受到多种因素的影响,主要包括管柱结构、套管尺寸、井眼流体、地层孔隙度等,这些因素都会对热中子的衰减造成一定影响,从而加大了地层俘获截面准确提取的难度。为了准确确定地层宏观俘获截面计算的起止道,采用蒙特卡罗模拟方法对以上各影响因素采取单一影响因素模拟,了解热中子衰减谱规律,指导地层宏观俘获截面的提取。通过蒙特卡罗模拟结果分析,发现不同影响因素对PNN测井影响不完全一致,通过分析给出了在不同影响因素下地层宏观俘获截面提取的建议,理论上指导了地层宏观俘获截面的准确提取。由于蒙特卡罗是单一影响因素分析方法,其模拟结果与实际情况不可能完全符合,导致在实际应用时难以解决实际生产。

因而现有技术还有待改进和提高。

发明内容

鉴于上述现有技术的不足之处,本发明的目的在于提供一种地层俘获截面曲线校正方法、设备及存储介质,可对实际井中的地层俘获截面曲线的影响因素进行校正,以知道实际生产。

为了达到上述目的,本发明采取了以下技术方案:

第一方面,本发明提供了一种地层俘获截面曲线校正方法,包括如下步骤:

建立地层俘获截面的蒙特卡罗计算模型,根据蒙特卡罗计算模型分析出地层俘获截面获取的影响因素;

获取实际井资料以及已有裸井资料中的标志层的俘获截面曲线,根据所述标志层的俘获截面曲线选出实际井中的异常井段,并对异常井段中的影响因素进行校正,其中,所述标志层包括纯泥岩层和纯水层;

根据校正后的异常井段数据得到校正后的地层俘获截面曲线。

第二方面,本发明还提供了一种地层俘获截面曲线校正装置,包括:

影响因素分析模块,用于建立地层俘获截面的蒙特卡罗计算模型,根据蒙特卡罗计算模型分析出地层俘获截面获取的影响因素;

影响因素校正模块,用于获取实际井资料以及已有裸井资料中的标志层的俘获截面曲线,根据所述标志层的俘获截面曲线选出实际井中的异常井段,并对异常井段中的影响因素进行校正,其中,所述标志层包括纯泥岩层和纯水层;

俘获截面校正模块,用于根据校正后的异常井段数据得到校正后的地层俘获截面曲线。

第三方面,本发明还提供了一种地层俘获截面曲线校正设备,包括处理器以及存储器;

所述存储器上存储有可被所述处理器执行的计算机可读程序;

所述处理器执行所述计算机可读程序时实现如上所述的地层俘获截面曲线校正方法。

第四方面,本发明还提供了一种计算机可读存储介质,所述计算机可读存储介质存储有一个或者多个程序,所述一个或者多个程序可被一个或者多个处理器执行,以实现如上所述的地层俘获截面曲线校正方法中的步骤。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长江大学,未经长江大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010848170.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top