[发明专利]一种反射阵列天线及其设计方法在审
申请号: | 202010847101.8 | 申请日: | 2020-08-21 |
公开(公告)号: | CN111987481A | 公开(公告)日: | 2020-11-24 |
发明(设计)人: | 陈雪;刘鹏;陈博;王宏建;易敏;刘广 | 申请(专利权)人: | 中国科学院国家空间科学中心 |
主分类号: | H01Q19/18 | 分类号: | H01Q19/18;H01Q21/24;H01Q3/34 |
代理公司: | 北京方安思达知识产权代理有限公司 11472 | 代理人: | 陈琳琳;武玥 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 反射 阵列 天线 及其 设计 方法 | ||
1.一种反射阵列天线,所述反射阵列天线包括:馈源(3)和反射阵列;其特征在于,所述反射阵列包括多个呈等间隔周期排列的阵元;每个阵元的高度可调节,使各个阵元的高度呈不规则地增加或减小,且各个阵元的上端面处于不同平面上。
2.根据权利要求1所述的反射阵列天线,其特征在于,所述阵元为柱状结构或立方体结构,其表面为矩形、方形或圆形的辐射结构,所述阵元包括:薄片结构(1)和阵元位置控制层(2);薄片结构(1)位于阵元位置控制层(2)之上,且贴合在阵元位置控制层(2)的顶部表面;
其中,阵元位置控制层(2)为柱状结构或立方体结构的高度可控材料层,采用电压控制、磁控制或温度控制方式,控制每个阵元中的薄片结构(1)在三维坐标系XYZ中的Z方向的坐标,从而改变每个阵元的高度。
3.根据权利要求2所述的反射阵列天线,其特征在于,所述薄片结构(1)上刻蚀不同形状的薄片;薄片结构(1)为薄金属片或微带贴片。
4.根据权利要求1所述的反射阵列天线,其特征在于,所述馈源(3)和反射阵列的组成形式为正馈或偏馈。
5.根据权利要求1所述的反射阵列天线,其特征在于,所述阵元位置控制层(2)内设置微电机,每个阵元上的薄片结构布设在该微电机上,利用可编程芯片控制每个微电机,从而控制每个阵元的上升高度和下降高度,每个阵元的高度调节范围为-λ~λ;其中,λ为电磁波的波长。
6.一种权利要求1-5任一项所述的反射阵天线的设计方法,其特征在于,所述设计方法包括:
步骤1)根据焦距、天线口面尺寸和阵列单元数量N,设置反射阵列的平面排布方式为等间隔周期排列,并根据设置的平面排布方试,建立三维坐标系XYZ,获得第i个阵元的中心坐标(xi,yi,zi);其中,i=1,2,...,N;xi为每个阵元在x轴方向上的位移;yi为每个阵元在y轴方向上的位移;zi为每个阵元的高度;
步骤2)根据第i个阵元的中心坐标(xi,yi,zi);计算反射阵表面的相位分布:
φ(xi,yi,zi)=-k0sinθ0cosφ0xi-k0sinθ0sinφ0yi-k0cosθ0zi (1)
其中,φ(xi,yi,zi)为反射阵表面相位分布;sinθ0为波束指向在θ0的正弦值;cosθ0为波束指向在θ0的余弦值;sinφ0为波束指向在φ0的正弦值;cosφ0为波束指向在φ0的余弦值;k0为真空中的传播常数;波束指向为(θ0,φ0);(xi,yi,zi)为第i个阵元的中心坐标;
步骤3)计算第i个阵元的入射场的相位M:
M=-k0di (2)
其中,
其中,(xf,yf,zf)为馈源的相位中心坐标;
步骤4)计算第i个阵元所需要引入的相移:
其中,φiR为第i个阵元所需要引入的相移;其中,为初始相位;
步骤5)采用HFSS仿真软件,计算第i个阵元的反射相位phi,将计算得到的phi与步骤4)计算得到的φiR作差,根据该差值,计算第i个新的阵元的中心坐标;
步骤6)将第i个新阵元的中心坐标重复步骤2)-5),进行多次迭代,直至该差值小于Δ;其中,Δ为一个已知常量;判断是否调整第i个阵元在Z方向上的坐标,获得第i个新的阵元的中心坐标;
步骤7)重复步骤2)-6),得到N个阵元,并按照步骤1)设置的平面排布方式组成反射阵列,并与馈源按照正馈或反馈的方式组合,形成反射阵列天线。
7.根据权利要求6所述的反射阵天线的设计方法,其特征在于,所述步骤6)中,判断是否调整第i个阵元在Z方向上的坐标,获得第i个新的阵元的中心坐标;具体为:
如果该差值大于预先设定的阈值,则需要分别增加或减小第i个阵元在Z方向上的坐标,获得第i个新的阵元的中心坐标;
如果该差值小于或等于预先设定的阈值,则不需要调整第i个阵元在Z方向上的坐标。
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