[发明专利]用于仿真集成电路的方法和设备以及计算机可读介质

权利要求书

1.一种用于对集成电路进行仿真的方法，包括：

获取指示集成电路的版图数据；

基于所述版图数据生成所述集成电路的图形化版图；

对所述集成电路的图形化版图进行划分以确定待仿真区域；以及

通过使用与所述待仿真区域中的版图图案对应的模型对所述待仿真区域进行处理，以生成针对所述待仿真区域的仿真显微图像。

2.根据权利要求1所述的方法，其中生成所述仿真显微图像包括：

基于所述版图图案生成针对待仿真区域的轮廓图案；以及

通过使用与所述轮廓图案对应的模型对所述待仿真区域进行处理，以生成所述仿真显微图像。

3.根据权利要求2所述的方法，其中通过使用与所述轮廓图案对应的模型对所述待仿真区域进行处理来生成所述仿真显微图像包括：

在仿真显微图像库中针对所述轮廓图案进行检索；以及

如果检索到与所述轮廓图案对应的显微图像模型，则将所述显微图像模型的显微图像生成为所述仿真显微图像。

4.根据权利要求3所述的方法，其中通过使用与所述轮廓图案对应的模型对所述待仿真区域进行处理来生成所述仿真显微图像还包括：

如果未检索到与所述轮廓图案对应的显微图像模型，则使用机器学习模型对所述轮廓图案进行处理，以生成所述仿真显微图像。

5.根据权利要求1所述的方法，其中生成针对所述待仿真区域的仿真显微图像包括使用机器学习模型对所述版图图案进行处理来生成所述仿真显微图像。

6.根据权利要求5所述的方法，其中使用机器学习模型对所述版图图案进行处理来生成所述仿真显微图像包括：

基于所述版图图案生成轮廓图案；以及

使用所述机器学习模型对所述轮廓图案进行处理，以生成所述仿真显微图像。

7.根据权利要求5所述的方法，还包括：

获取多个样本版图图案；

获取与所述多个样本版图图案分别对应的多个显微图像；以及

使用所述多个样本版图图案和所述多个显微图像进行训练，以生成所述机器学习模型。

8.根据权利要求1所述的方法，还包括：

基于所述待仿真区域生成针对所述待仿真区域的三维堆叠结构；

其中生成针对所述待仿真区域的仿真显微图像包括：通过使用与所述三维堆叠结构的侧表面的图案对应的模型对所述侧表面进行处理，以生成针对所述三维堆叠结构的所述侧表面的仿真显微图像。

9.根据权利要求8所述的方法，还包括：

获取用户输入，所述用户输入指示在所述图形化版图上选定的剖面线；

其中确定所述待仿真区域包括基于所述用户输入确定所述待仿真区域，所述仿真区域用于生成所述三维堆叠结构。

10.根据权利要求1所述的方法，其中所述仿真显微图像包括仿真透射电子显微图像、仿真扫描电子显微图像、仿真原子力显微图像、仿真扫描隧道显微图像、仿真扫描透射电子显微图像中的至少一种。

11.根据权利要求1所述的方法，其中生成针对所述待仿真区域的仿真显微图像包括：

基于所述待仿真区域中的版图图案和所述版图图案所涉及的工艺、材料、结构和/或尺寸，来生成针对所述待仿真区域的仿真显微图像。

12.根据权利要求1所述的方法，还包括：

获取针对所述待仿真区域的谱数据；

将所述谱数据与参考谱数据库中与所述待仿真区域的所述仿真显微图像对应的参考谱数据进行比较，以确定所述谱数据中是否存在异常信号；以及

如果确定比较结果中存在异常信号，则生成指示所述仿真显微图像中存在异常结构的异常指示信号。