[发明专利]晶石模型的渲染方法、装置、电子设备及存储介质

说明书

本申请提供一种晶石模型的渲染方法、装置、电子设备及存储介质，涉及模型渲染技术领域。其中，该方法通过对待处理的晶石模型的纹理坐标进行视差映射处理，获得偏移的纹理坐标；通过偏移的纹理坐标对预设的细节纹理贴图进行采样，得到用于表征晶石模型内部部分细节的内部纹理贴图；将内部纹理贴图与预设的反照率贴图进行混合，得到颜色贴图；根据颜色贴图和预设的基于物理的着色模型对晶石模型进行光照计算，得到第一光照结果；根据第一光照结果对晶石模型进行渲染，使得渲染后的晶石模型不仅可以体现出晶石表面的反射质感，还可以体现晶石内部的折射现象，反映晶石的内部质感，提高晶石模型的渲染方法的适用性。

技术领域

本申请涉及模型渲染技术领域，特别涉及一种晶石模型的渲染方法、装置、电子设备及存储介质。

背景技术

晶石在光学表现上具有与众不同的折射、散射现象，难以用一种统一的概念去表达它们的材质。晶石通常纯净时形成无色透明的晶石，当含有微量元素或者杂质时会呈现不同的颜色，杂质影响光线的折射也会让晶石的材质显得特别，而通过对晶石模型进行渲染，可以以三维虚拟展示的方式体现晶石的真实质感。

现有的对晶石模型进行渲染时，一般基于物理的着色模型实现，其本身通过复杂的光照计算，以及金属度和粗糙度来定义物体表面的光线反射情况，从而能够表达物体的表面质感。

但现有的渲染方法由于遵循其狭义的物理定义，因此，通常难以描述晶石的内部质感。

发明内容

本申请的目的在于，针对上述现有技术中的不足，提供一种晶石模型的渲染方法、装置、电子设备及存储介质，不仅可以体现晶石表面反射效果，同时还可以体现晶石内部的折射效果，反映晶石的内部质感。

为实现上述目的，本申请实施例采用的技术方案如下：

第一方面，本申请实施例提供了一种晶石模型的渲染方法，包括：

对待处理的晶石模型的纹理坐标进行视差映射处理，获得偏移的纹理坐标；

通过所述偏移的纹理坐标对预设的细节纹理贴图进行采样，得到用于表征所述晶石模型内部部分细节的内部纹理贴图；

将所述内部纹理贴图与预设的反照率贴图进行混合，得到颜色贴图；

根据所述颜色贴图和预设的基于物理的着色模型对所述晶石模型进行光照计算，得到第一光照结果；

根据所述第一光照结果对所述晶石模型进行渲染。

可选地，上述根据所述颜色贴图和预设的基于物理的着色模型对所述晶石模型进行光照计算，得到第一光照结果，包括：

根据所述颜色贴图、预设的粗糙度贴图、预设的法线贴图和预设的基于物理的着色模型对所述晶石模型进行光照计算，得到第一光照结果。

可选地，上述方法还包括：

根据所述颜色贴图和预设的透光贴图对所述晶石模型进行透射光计算，获得第二光照结果，其中，所述预设的透光贴图用于表示所述晶石模型不同区域的透光率；

所述根据所述第一光照结果对所述晶石模型进行渲染，包括：

根据所述第一光照结果和所述第二光照结果对所述晶石模型进行渲染。

可选地，上述根据所述颜色贴图和预设的透光贴图对所述晶石模型进行透射光计算，获得第二光照结果，包括：

在所述晶石模型内部模拟一虚拟光源；

获取所述虚拟光源的初始光照方向、光照衰减因子以及光源颜色；

获取所述初始光照方向经所述晶石模型折射后得到的折射光照方向；

根据所述折射光照方向以及观察方向获得所述晶石模型的透射因子；