[发明专利]晶石模型的渲染方法、装置、电子设备及存储介质在审

专利信息
申请号: 202010814064.0 申请日: 2020-08-13
公开(公告)号: CN111899325A 公开(公告)日: 2020-11-06
发明(设计)人: 孔令杰 申请(专利权)人: 网易(杭州)网络有限公司
主分类号: G06T15/50 分类号: G06T15/50;G06T15/04;G06T17/00
代理公司: 北京超成律师事务所 11646 代理人: 刘静
地址: 310052 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 晶石 模型 渲染 方法 装置 电子设备 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种晶石模型的渲染方法,其特征在于,所述方法包括:

对待处理的晶石模型的纹理坐标进行视差映射处理,获得偏移的纹理坐标;

通过所述偏移的纹理坐标对预设的细节纹理贴图进行采样,得到用于表征所述晶石模型内部部分细节的内部纹理贴图;

将所述内部纹理贴图与预设的反照率贴图进行混合,得到颜色贴图;

根据所述颜色贴图和预设的基于物理的着色模型对所述晶石模型进行光照计算,得到第一光照结果;

根据所述第一光照结果对所述晶石模型进行渲染。

2.根据权利要求1所述的渲染方法,其特征在于,所述根据所述颜色贴图和预设的基于物理的着色模型对所述晶石模型进行光照计算,得到第一光照结果,包括:

根据所述颜色贴图、预设的粗糙度贴图、预设的法线贴图和预设的基于物理的着色模型对所述晶石模型进行光照计算,得到第一光照结果。

3.根据权利要求1或2所述的渲染方法,其特征在于,所述方法还包括:

根据所述颜色贴图和预设的透光贴图对所述晶石模型进行透射光计算,获得第二光照结果,其中,所述预设的透光贴图用于表示所述晶石模型不同区域的透光率;

所述根据所述第一光照结果对所述晶石模型进行渲染,包括:

根据所述第一光照结果和所述第二光照结果对所述晶石模型进行渲染。

4.根据权利要求3所述的渲染方法,其特征在于,所述根据所述颜色贴图和预设的透光贴图对所述晶石模型进行透射光计算,获得第二光照结果,包括:

在所述晶石模型内部模拟一虚拟光源;

获取所述虚拟光源的初始光照方向、光照衰减因子以及光源颜色;

获取所述初始光照方向经所述晶石模型折射后得到的折射光照方向;

根据所述折射光照方向以及观察方向获得所述晶石模型的透射因子;

根据所述透射因子、所述光源颜色、所述光照衰减因子、所述预设的透光贴图以及所述颜色贴图计算透射光,得到第二光照结果。

5.根据权利要求4所述的渲染方法,其特征在于,所述获取所述初始光照方向经所述晶石模型折射后得到的折射光照方向,包括:

根据所述初始光照方向和晶石模型表面顶点的法线方向,获取所述初始光照方向经所述晶石模型折射后得到的折射光照方向。

6.根据权利要求4所述的渲染方法,其特征在于,所述获取所述虚拟光源的初始光照方向,包括:

根据所述虚拟光源的位置以及晶石模型表面顶点的顶点位置,获取所述虚拟光源的初始光照方向;

所述获取所述虚拟光源的光照衰减因子,包括:

根据预设的光照范围参数以及所述虚拟光源的光照向量的模,获取所述虚拟光源的光照衰减因子。

7.根据权利要求1所述的渲染方法,其特征在于,所述方法还包括:

根据所述颜色贴图、晶石模型表面顶点的法线方向以及观察方向对所述晶石模型进行边缘光计算,获得第三光照结果;

所述根据所述第一光照结果对所述晶石模型进行渲染,包括:

根据所述第一光照结果和所述第三光照结果对所述晶石模型进行渲染。

8.根据权利要求7所述的渲染方法,其特征在于,所述根据所述颜色贴图、所述晶石模型表面顶点的法线方向以及观察方向对所述晶石模型进行边缘光计算,获得第三光照结果,包括:

将所述晶石模型表面顶点的法线方向与观察方向的点乘结果作为插值因子,对预设的边缘光内层颜色和预设的边缘光的外层颜色进行插值,获得边缘光因子;

根据所述颜色贴图、所述边缘光因子以及预设的边缘光可控参数获取所述晶石模型的边缘光,得到第三光照结果。

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