[发明专利]转印滚轮的制造方法、及滚轮母膜与其制造方法

说明书

本发明公开一种转印滚轮的制造方法、及滚轮母膜与其制造方法。所述滚轮母膜包含有呈圆管状的一电镀基底层、形成于所述电镀基底层的内表面的一化镀翻印层、及埋置于所述化镀翻印层内的多个纳米银颗粒。所述化镀翻印层的厚度小于所述电镀基底层的厚度，并且所述化镀翻印层的材质与所述电镀基底层的材质相同。所述化镀翻印层的内表面及多个纳米银颗粒共同包围形成有一微结构翻印空间，其能够利于转印滚轮成形且不残留纳米银颗粒。

技术领域

本发明涉及一种转印滚轮，尤其涉及一种转印滚轮的制造方法、及滚轮母膜与其制造方法。

背景技术

现有的转印滚轮的制造方式是先在一前置滚轮的外表面通过银镜反应形成有一银镀层，而后在所述银镀层上形成有一母膜，最后将所述前置滚轮从所述母膜拆出，以使所述母膜内可以形成有上述现有转印滚轮。然而，现有转印滚轮从所述母膜拆出后，现有转印滚轮的外表面容易残留有来自所述银镀层的拆板银线，进而造成缺陷。

于是，本发明人认为上述缺陷可改善，通过研究并配合科学原理的运用，提出一种设计合理且有效改善上述缺陷的本发明。

发明内容

本发明实施例在于提供一种转印滚轮的制造方法、及滚轮母膜与其制造方法，能有效地改善现有转印滚轮上易残留拆板银线的缺陷。

本发明实施例公开一种转印滚轮的制造方法，其包括：制造一滚轮母膜，包括以下步骤：实施一前置步骤：提供一前置滚轮，该前置滚轮包含有一圆筒及形成于圆筒的外表面的一光阻层；其中，光阻层形成有的多个光学微结构；实施一布银步骤：在光阻层的多个光学微结构上布设有多个纳米银颗粒；实施一化镀步骤：在光阻层的多个光学微结构上进行化学镀，以形成有包覆多个纳米银颗粒的一化镀翻印层；实施一电镀步骤：在化镀翻印层上电镀形成有一电镀基底层，以使电镀基底层、化镀翻印层及埋置于化镀翻印层内的多个纳米银颗粒共同构成滚轮母膜；实施一脱膜步骤：将前置滚轮从滚轮母膜分离，以使化镀翻印层的内表面及该内表面所包覆的多个纳米银颗粒共同包围形成有一微结构翻印空间；其中，化镀翻印层的厚度小于电镀基底层的厚度；将一金属圆筒置入于滚轮母膜的微结构翻印空间之内，并于金属圆筒的外表面电镀形成充满微结构翻印空间的一金属转印层，以使金属圆筒与金属转印层共同构成一转印滚轮；以及将转印滚轮从滚轮母膜分离，且转印滚轮的金属转印层外表面未残留有与金属转印层的材质不同的任何金属。

优选地，于布银步骤中，多个光学微结构上仅局部布设有多个纳米银颗粒；于化镀步骤中，化镀翻印层形成在未布设有多个纳米银颗粒的多个光学微结构的部位。

优选地，多个纳米银颗粒与多个光学微结构呈点接触，而未接触于多个光学微结构的多个纳米银颗粒的表面被化镀翻印层所包覆。

优选地，多个纳米银颗粒的平均粒径介于1纳米(nm)至40纳米，并且化镀翻印层的厚度介于0.5微米(μm)至5微米。

优选地，化镀翻印层的材质与电镀基底层的材质相同，金属圆筒的材质与金属转印层的材质相同。

优选地，化镀翻印层的材质、电镀基底层的材质、金属圆筒的材质、及金属转印层的材质都为镍金属。

本发明实施例也公开一种滚轮母膜的制造方法，其包括：实施一前置步骤：提供一前置滚轮，包含有一圆筒及形成于圆筒的外表面的一光阻层；其中，光阻层形成有多个光学微结构；实施一布银步骤：在光阻层的多个光学微结构上布设有多个纳米银颗粒；实施一化镀步骤：在光阻层的多个光学微结构上进行化学镀，以形成有包覆多个纳米银颗粒的一化镀翻印层；实施一电镀步骤：在化镀翻印层上电镀形成有一电镀基底层，以使电镀基底层、化镀翻印层、及埋置于化镀翻印层内的多个纳米银颗粒共同构成滚轮母膜；其中，化镀翻印层的厚度小于电镀基底层的厚度；以及实施一脱膜步骤：将前置滚轮从滚轮母膜分离，以使化镀翻印层的内表面及该内表面所包覆的多个纳米银颗粒共同包围形成有一微结构翻印空间。