[发明专利]基板处理系统

权利要求书

1.一种基板处理系统，其包括：盒工作站，其具有对于收纳有多个基板的盒进行基板的搬入搬出的搬送装置；和处理站，其具有对基板进行液处理的多个液处理装置，所述基板处理系统的特征在于，包括：

检查装置，其与所述盒工作站相邻地设置，拍摄由所述液处理装置处理之前的基板和由所述液处理装置处理之后的基板；

特征量抽取部，其从由所述液处理装置处理之前的基板的基板图像中抽取规定的特征量；

存储有多个检查方案的存储部，其中，所述多个检查方案包含与各个不同范围的所述特征量对应地设定的、由所述检查装置进行拍摄时的拍摄条件；

方案选择部，其从所述存储部所存储的所述检查方案中，选择包含与由所述特征量抽取部抽取出的特征量对应的所述拍摄条件的检查方案；和

缺陷判断部，其基于所选择的所述检查方案，获取与由所述液处理装置处理之前从所述基板图像中抽取了特征量的基板相同的、由所述液处理装置处理之后的基板的基板图像，来判断由所述液处理装置处理之后的基板的基板图像中是否存在缺陷。

2.如权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于：

通过所述盒工作站的搬送装置，将由所述液处理装置处理之前的基板搬入所述检查装置，并将由所述液处理装置处理之后的基板从所述检查装置搬出。

3.如权利要求1或2所述的基板处理系统，其特征在于：

具有与曝光装置连接的接口站，由所述液处理装置处理之后的基板用所述曝光装置来进行曝光处理。

4.如权利要求1或2所述的基板处理系统，其特征在于：

在所述处理站设置有对基板进行热处理的热处理装置。

5.如权利要求1或2所述的基板处理系统，其特征在于：

在所述多个液处理装置中，对基板的表面供给涂敷液以形成涂敷膜，并对曝光处理后的基板进行显影处理。

6.如权利要求1或2所述的基板处理系统，其特征在于：

所述检查装置包括：拍摄由所述液处理装置处理之前的基板的第1检查装置；和拍摄由所述液处理装置处理之后的基板的第2检查装置。

7.如权利要求1或2所述的基板处理系统，其特征在于：

所述检查装置具有设置于装置的侧面一端侧的基板的拍摄装置，所述检查装置一边使基板向所述侧面一端侧移动，一边用所述拍摄装置拍摄该基板的表面。

8.一种基板处理系统，其具有对基板实施规定处理的多个处理装置，该基板处理系统的特征在于，包括：

拍摄由所述处理装置处理之前的基板的表面以获取第1基板图像的第1拍摄装置；

拍摄由所述处理装置处理之后的基板的表面以获取第2基板图像的第2拍摄装置；和

控制部，其具有保存所述第1基板图像的图像保存部，所述控制部抽取所述图像保存部所保存的第1基板图像的像素值，将该第1基板图像的整个面的像素值的平均值作为该基板的特征量，并基于该特征量将第1基板图像分类为多个组，并且，将被分类到各所述组的第1基板图像与该第1基板图像所对应的第2基板图像合成来生成基准图像，基于所生成的基准图像来生成检查方案。

9.如权利要求8所述的基板处理系统，其特征在于：

所述控制部还具有存储所述检查方案的存储部。

10.如权利要求8或9所述的基板处理系统，其特征在于：

所述控制部还具有：

差图像生成部，其生成所述第1基板图像与该第1基板图像所对应的所述第2基板图像的差图像；和

基准图像生成部，其合成与被分类到各所述组的多个所述第1基板图像对应的多个所述差图像，来生成作为缺陷检查的基准的基准图像，

基于由所述基准图像生成部生成的基准图像来生成检查方案。