[发明专利]大尺寸超材料金属微结构的制造方法在审

专利信息
申请号: 202010790673.7 申请日: 2020-08-07
公开(公告)号: CN114055972A 公开(公告)日: 2022-02-18
发明(设计)人: 刘若鹏;赵治亚;林云燕;李雪;邢明军 申请(专利权)人: 深圳光启尖端技术有限责任公司
主分类号: B41M1/12 分类号: B41M1/12;B41M7/00
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 刘娜
地址: 518057 广东省深圳市南*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 尺寸 材料 金属 微结构 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种大尺寸超材料金属微结构的制造方法,其特征在于,包括:

预处理步骤:制备丝印银浆和丝印网版,并对丝印基材膜进行电晕处理;

校准步骤:在所述丝印基材膜上设置定位靶标,并安装对位接收器和对位装置;

加工步骤:对所述丝印基材膜依次进行丝印处理和套印处理,以得到大尺寸超材料金属微结构,其中,所述套印处理的次数为多次,并在所述套印处理中对需要进行所述套印处理的部分进行遮挡。

2.根据权利要求1所述的大尺寸超材料金属微结构的制造方法,其特征在于,在所述预处理步骤中,所述丝印银浆的电导率为1*106μs/cm至9*106μs/cm。

3.根据权利要求1所述的大尺寸超材料金属微结构的制造方法,其特征在于,在所述预处理步骤中,

所述丝印网版为钢丝网版;和/或

所述丝印网版的目数为350至500;和/或

所述丝印网版的张力为±1N。

4.根据权利要求1所述的大尺寸超材料金属微结构的制造方法,其特征在于,在所述校准步骤中,

所述对位装置设置在所述丝印基材膜的上方并对所述定位靶标进行对位;和/或

所述对位装置为激光投影仪。

5.根据权利要求1所述的大尺寸超材料金属微结构的制造方法,其特征在于,在所述校准步骤中,在所述丝印基材膜上打定位孔,所述定位孔作为所述定位靶标。

6.根据权利要求1所述的大尺寸超材料金属微结构的制造方法,其特征在于,在所述校准步骤中,所述定位靶标呈十字形。

7.根据权利要求1所述的大尺寸超材料金属微结构的制造方法,其特征在于,所述加工步骤包括:

步骤S1:对所述丝印基材膜进行所述丝印处理,以得到超材料金属微结构薄膜;

步骤S2:对所述超材料金属微结构薄膜进行套印处理,并对所述超材料金属微结构薄膜中需要套印处理的部分进行遮挡;

步骤S3:重复N次所述步骤S2,以得到所述大尺寸超材料金属微结构,其中,N为大于等于1的整数。

8.根据权利要求7所述的大尺寸超材料金属微结构的制造方法,其特征在于,在所述步骤S3中,先执行所述重复N次所述步骤S2,再进行固化步骤,所述固化步骤包括:

对所述超材料金属微结构薄膜进行固化,所述固化完成后降至室温以得到所述大尺寸超材料金属微结构。

9.根据权利要求8所述的大尺寸超材料金属微结构的制造方法,其特征在于,在所述固化步骤中,固化温度为170℃至190℃,固化时间为0.5h至1.5h。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的大尺寸超材料金属微结构的制造方法,其特征在于,所述大尺寸超材料金属微结构的长度大于等于2500mm。

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