[发明专利]化学增幅型正型感光性树脂组成物及所制保护膜和组件

说明书

本发明提供一种化学增幅型正型感光性树脂组成物，包含一第一树脂(A1)、一第二树脂(A2)、一光酸产生剂(B)及一溶剂，且其所制得的保护膜具有显影密着性良好及无显影残渣的优点。发明另关于该化学增幅型正型感光性树脂组成物所制得的保护膜及包含该保护膜的组件。

技术领域

本发明是有关于一种化学增幅型正型感光性树脂组成物及其应用，特别是关于一种化学增幅型正型感光性树脂，其所制得的保护膜具有显影密着性良好及无显影残渣的优点，以及其所制得的保护膜及包含该保护膜的组件。

背景技术

薄膜晶体管型液晶显示组件或有机电致发光组件(organicelectroluminescence device，有机EL组件)等显示组件，通常包含层间绝缘膜或平坦化膜等绝缘膜，而此种绝缘膜通常使用感放射线性组成物来形成。为符合图案化性能的需求，通常可使用包含萘醌二叠氮化物(naphthoquinone diazide)等酸产生剂的正型感光性树脂组成物(参照日本专利特开2001-354822号公报)，但近年来仍有许多其他的感光性组成物被提出。

举例而言，例如日本专利特开2004-4669号公报，关于一种正型化学增幅材料，其形成显示组件用的硬化膜，所述正型化学增幅材料较前述使用萘醌二叠氮化物等酸产生剂的正型感光性树脂组成物，具有更高的感度。所述正型化学增幅材料含有交联剂、酸产生剂及酸解离性树脂，其中酸解离性树脂具有可被酸作用而解离的保护基，虽然酸解离性树脂本身不溶或难溶于碱性水溶液中，但通过酸的作用，使保护基解离而可溶于碱性水溶液中。另外，例如日本专利特开2004-264623号公报、日本专利特开2011-215596号公报以及日本专利特开2008-304902号公报也提出了含有具有缩醛结构及/或缩酮结构以及环氧基的树脂及酸产生剂的正型感光性组成物。

此类感光性树脂组成物中，除需具有高光感度外，还需具有长期保存时黏度不易变化的保存稳定性，以使此类感光性树脂组成物所形成的硬化膜可具有不因显影液等而膨润的耐化性。据此，所述硬化膜形成的图案亦可于显影后与基板充分密合而不易剥离，且硬化膜具有足够的透明性，即便在曝光后放置，图案仍与基板充分密合而不易剥离。

然而，目前的感光性树脂组成物仍有显影密着性不足及有显影残渣产生的问题，而仍无法为业界所接受。

发明内容

本发明通过所提供的化学增幅型正型感光性树脂组成物的特殊组成及/或配比，而可使其所制得的保护膜具有显影密着性良好及无显影残渣的优点。

因此，本发明提供一种化学增幅型正型感光性树脂组成物，包含：

一第一树脂(A1)，由一第一混合物共聚合而得，该第一混合物包含不饱和羧酸单体(a1-1)、含结构式(1)所示酸解离性基的含酸解离性基的单体(a1-2)以及含内酯结构的不饱和单体(a1-3)；

式(1)中，R₁₁和R₁₂各自独立为氢原子、烷基、脂环式烃基或芳基，其中所述烷基、脂环式烃基或芳基所具有的氢原子可部分或全部被取代，且R₁₁及R₁₂不同时为氢原子；R₁₃为烷基、脂环式烃基、芳烷基或芳基，其中所述烷基、脂环式烃基、芳烷基及芳基所具有的氢原子可部分或全部被取代；R₁₁与R₁₃可相互键结而与R₁₁所键结的碳原子以及R₁₃所键结的氧原子共同形成环状醚结构；

一第二树脂(A2)，由一第二混合物共聚合而得，该第二混合物包含不饱和羧酸单体(a2-1)、含结构式(2)所示酸解离性基的含酸解离性基的单体(a2-2)以及含酚羟基的不饱和单体(a2-3)；