[发明专利]光罩收容装置有效
申请号: | 202010781434.5 | 申请日: | 2020-08-06 |
公开(公告)号: | CN112389846B | 公开(公告)日: | 2022-08-26 |
发明(设计)人: | 庄家和;温星闵;薛新民;李怡萱;邱铭乾 | 申请(专利权)人: | 家登精密工业股份有限公司 |
主分类号: | B65D43/06 | 分类号: | B65D43/06;B65D43/08;B65D51/16 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 姜璐璐;赵燕力 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 收容 装置 | ||
一种光罩收容装置包含:一上盖,具有一顶部和一覆盖部,该覆盖部围绕该顶部;及一下盖,具有一承载部和一周围结构,该周围结构围绕该承载部。该上盖与该下盖结合时,其间定义一通道使装置的一光罩容置空间未封闭。
技术领域
本发明是关于一种光罩收容装置,尤其关于一种非密闭(即密封)的光罩盒。
背景技术
已知的光罩盒通常包含一外盒和一内盒,其中外盒为光罩盒的最外层,而内盒收容在外盒内。在某些实施状态中,外盒可由一上盖及一下盖组成。相同的,内盒也可由一上盖及一下盖组成,并将一光罩容置于其中。
EUV(Extreme Ultraviolet)光罩在微污染控制方面,主要必须仰赖内盒的上下盖结合以防止外部粒子及微尘进入内盒中。已知的内盒上下盖设计利用密封的手段将内盒中的环境与其外部的环境流体隔绝,此阻止内外环境间的气体流动,故可有效杜绝内盒中的光罩受到污染。当然,如此密封式的内盒设计也有其缺点。首先,采用表面密封的手段是困难的,例如相互接触的平面的粗糙度要求非常严格。还有,当某些因素(如环境温度和压力变化)造成内盒的内部和外部环境的压力产生较大差异时,开启内盒的过程会导致内外环境之间的空气剧烈流动,反而使光罩因此受到污染。此通常发生在光罩外盒或内盒运输的过程。再者,密封式的设计通常需要上盖和下盖以一定程度的接触面积结合,此有可能使上盖和下盖的硬件互相碰撞而产生微粒,其同样可能污染容置在内盒的光罩。
因此,有必要发展能够解决封闭式内盒设计所存在的上述问题,确保内盒收容的光罩从在内盒的开启和关闭过程均处于相对安全的环境。
发明内容
本发明的目的在于提供一种光罩收容装置,包含:一上盖,具有一顶部和一覆盖部,该覆盖部围绕该顶部;一下盖,具有一承载部和一周围结构,该周围结构围绕该承载部;多个支撑柱,将该上盖抬升于该下盖上方,其中,当该上盖与该下盖结合时,该承载部与该上盖的顶部和覆盖部定义一光罩容置空间,该上盖的覆盖部面对该下盖的周围结构,该上盖的覆盖部的至少一部分与该下盖的周围结构的至少一部分借由多个该支撑柱而定义一通道,该通道使该光罩容置空间未封闭,该通道至少由两个不同方向的延伸结构所组成。
在一具体实施例中,所述两个不同方向的延伸结构是由形成于该覆盖部的一第一凹部与形成于该周围结构的一第一凸部所定义,该第一凹部与该第一凸部结构对应。
在一具体实施例中,所述两个不同方向的延伸结构还是由形成于该覆盖部的一第二凸部与形成于该周围结构的一第二凹部所定义,该第二凸部与该第二凹部结构对应。
在一具体实施例中,该第一凹部围绕该第二凸部,而该第一凸部围绕该第二凹部。
在一具体实施例中,该通道至少由一第一横向延伸结构、一第二横向延伸结构及一纵向延伸结构所组成,该纵向延伸介结构于该第一横向延伸结构及该第二横向延伸结构之间,该第一横向延伸结构及该第二横向延伸结构分别位于不同水平高度。
在一具体实施例中,该下盖的周围结构与该承载部之间定义一沟槽,该沟槽介于该通道与该光罩容置空间之间。
在一具体实施例中,该上盖的覆盖部具有多个支撑柱,该等支撑柱自该覆盖部向下延伸,该下盖的周围结构具有对应多个该支撑柱的多个容置凹部,多个该容置凹部自该周围结构向下延伸,各容置凹部配置成部分地容置对应的支撑柱,使该上盖的覆盖部被举升于该下盖的周围结构的上方。
本发明的另一目的在于提供一种光罩收容装置,包含:一上盖,具有一顶部和一覆盖部,该覆盖部围绕该顶部;及一下盖,具有一承载部和一周围结构,该周围结构围绕该承载部。其中,当该上盖与该下盖结合时,该承载部与该上盖的顶部和覆盖部定义一光罩容置空间,该上盖的覆盖部面对该下盖的周围结构,该上盖的覆盖部的至少一部分与该下盖的周围结构的至少一部分定义一通道,该通道使该光罩容置空间未封闭,该通道由多个延伸结构所组成,该通道具有一入口、一第一转折点及一第二转折点,该第一转折点所在的水平高度高于该入口的水平高度,该第二转折点的水平高度低于该入口的水平高度。
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