[发明专利]壳体组件及其制备方法、电子设备有效
| 申请号: | 202010779194.5 | 申请日: | 2020-08-05 |
| 公开(公告)号: | CN111901996B | 公开(公告)日: | 2021-09-03 |
| 发明(设计)人: | 陈益明;杨光明 | 申请(专利权)人: | OPPO广东移动通信有限公司 |
| 主分类号: | H05K5/02 | 分类号: | H05K5/02;B44F1/08;B44F5/00 |
| 代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 戴冬瑾 |
| 地址: | 523860 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 壳体 组件 及其 制备 方法 电子设备 | ||
1.一种制备壳体组件的方法,其特征在于,包括:
提供基体;
在所述基体的一侧依次形成第一底漆层、色漆层、镀膜漆层、光学镀膜层;以及
利用镭雕处理方法在所述第一底漆层、所述色漆层和所述镀膜漆层的至少之一上形成纹理结构;
其中,所述第一底漆层的厚度为20~30μm,所述色漆层的厚度为8~12μm,所述镀膜漆层的厚度为20~30μm,所述光学镀膜层的厚度为30~300nm,所述纹理结构的深度为1~10μm,所述纹理结构的宽度为30~60μm。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,进一步包括以下步骤的至少之一:
设置第二底漆层,所述第二底漆层位于所述基体和所述第一底漆层之间,所述第二底漆层的厚度为3~5μm;以及
设置面漆层,所述面漆层位于所述光学镀膜层远离所述镀膜漆层的一侧,所述面漆层的厚度为3~8μm。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述第一底漆层、所述色漆层、所述第二底漆层是由PU型树脂漆烘烤形成的,
所述烘烤的温度为70~80℃,所述烘烤的时间为20~40min。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述镀膜漆层为UV型树脂漆经UV能量固化形成的,所述固化使用的UV能量为1000~1200mJ/cm2,且所述镀膜漆层包含纳米氧化物,所述纳米氧化物含有Zr、Ti、Si的至少之一。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述光学镀膜层含有钛、硅、锆的至少之一,且形成所述光学镀膜层的温度为40~60℃。
6.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述面漆层为UV型树脂漆经UV能量固化形成的,所述固化使用的UV能量为800~1200mJ/cm2。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基体包括底面以及环绕所述底面的多个侧壁,至少一个所述侧壁和所述底面之间的折弯角大于70度。
8.一种壳体组件,其特征在于,包括:
基体;
在所述基体的一侧依次层叠的第一底漆层、色漆层、镀膜漆层、光学镀膜层;
其中,所述第一底漆层、所述色漆层、所述镀膜漆层的至少之一上具有纹理结构;
其中,所述第一底漆层的厚度为20~30μm,所述色漆层的厚度为8~12μm,所述镀膜漆层的厚度为20~30μm,所述光学镀膜层的厚度为30~300nm,所述纹理结构的深度为1~10μm,所述纹理结构的宽度为30~60μm。
9.根据权利要求8所述的壳体组件,其特征在于,所述纹理结构是利用镭雕处理方法形成的。
10.根据权利要求8所述的壳体组件,其特征在于,进一步包括以下步骤的至少之一:
设置第二底漆层,所述第二底漆层位于所述基体和所述第一底漆层之间,所述第二底漆层的厚度为3~5μm;以及
设置面漆层,所述面漆层位于所述光学镀膜层远离所述镀膜漆层的一侧,所述面漆层的厚度为3~8μm。
11.根据权利要求8所述的壳体组件,其特征在于,所述镀膜漆层包含纳米氧化物,所述纳米氧化物含有Zr、Ti、Si的至少之一。
12.一种电子设备,其特征在于,包括:
壳体组件,所述壳体组件为权利要求8~11任一项所述的,或者为利用权利要求1~7任一项所述的方法获得的;以及
主板和显示屏幕,所述主板和所述显示屏幕收纳于所述壳体组件中。
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